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1. (WO2000052744) PLATEAU, SON PROCEDE DE CONSTRUCTION, SON PROCEDE DE POSITIONNEMENT, SYSTEME D'EXPOSITION ET SON PROCEDE DE CONSTRUCTION, ET DISPOSITIF ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/052744    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/000980
Date de publication : 08.09.2000 Date de dépôt international : 22.02.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.09.2000    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP)
Inventeurs : TANAKA, Keiichi; (JP).
HAZELTON, Andrew, J.; (JP).
BINNARD, Mike; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; Paseo Building, 5th Floor, 4-20, Haramachida 5-chome, Machida-shi, Tokyo 194-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
60/135,506 26.02.1999 US
Titre (EN) STAGE DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREOF, POSITION CONTROL METHOD, EXPOSURE SYSTEM AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREOF
(FR) PLATEAU, SON PROCEDE DE CONSTRUCTION, SON PROCEDE DE POSITIONNEMENT, SYSTEME D'EXPOSITION ET SON PROCEDE DE CONSTRUCTION, ET DISPOSITIF ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)A stage device (30), wherein, when a stage (WST) is moved two-dimensionally, a first drive device (50X) provided on a sample (W) mounting side of the stage (WST) is dedicated to stage driving in a first axial direction, and a second drive device (50Y) provided on the opposite side to the sample (W) mounting side of the stage (WST) is dedicated to stage (WST) driving in a second axial direction different from the first axial direction to thereby move the stage (WST) two-dimensionally. Therefore, such a construction is possible in moving the stage (WST) two-dimensionally that each drive device is used as a primary drive device and one drive device does not include the other drive device as a driving object of the former, whereby a high-speed moving of the sample (W) is possible with a simple construction and a high-accuracy position control can be attained. Such a stage device (30) used in moving a wafer (W) can implement a high-accuracy, high-throughput exposure system.
(FR)L'invention porte sur un système de plateau (30) dans lequel, pour entraîner le plateau (WST) dans deux dimensions, on utilise un premier dispositif d'entraînement (50X) placé sur le côté porte-échantillons (W) du plateau pour le déplacer dans une première direction axiale, et un deuxième dispositif d'entraînement (50Y) placé sur le côté opposé au porte-échantillons pour le déplacer dans une deuxième direction axiale différente de la première. Cette disposition permet des déplacements où chacun des entraînements sert d'entraînement primaire sans entraîner l'autre. On obtient ainsi moyennant une construction simple des déplacements rapides et une grande précision de positionnement. Un tel système (30) peut servir à exposer des tranches de silicium, avec une grande précision et un rendement élevé.
États désignés : AE, AL, AU, BA, BB, BG, BR, CA, CN, CR, CU, CZ, DM, EE, GD, GE, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KP, KR, LC, LK, LR, LT, LV, MA, MG, MK, MN, MX, NO, NZ, PL, RO, SG, SI, SK, TR, TT, UA, UZ, VN, YU, ZA.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)