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1. (WO2000052111) COMPOSITION A BASE DE MATIERE DE STOCKAGE THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/052111    N° de la demande internationale :    PCT/JP1999/001014
Date de publication : 08.09.2000 Date de dépôt international : 03.03.1999
CIB :
C09K 5/06 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0005 (JP).
MITSUBISHI CHEMICAL ENGINEERING CORPORATION [JP/JP]; 34-6, Shiba 5-chome Minato-ku Tokyo 108-0014 (JP)
Inventeurs : YABE, Masayoshi; (JP).
KAKIUCHI, Hiroyuki; (JP).
YAMAZAKI, Masanori; (JP)
Mandataire : OGAWA, Toshiharu; Torimoto Kogyo Building 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku Tokyo 101-0042 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HEAT-STORAGE MATERIAL COMPOSITION
(FR) COMPOSITION A BASE DE MATIERE DE STOCKAGE THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A heat-storage material composition characterized by comprising the following three ingredients: (A) trimethylolethane, (B) water, and (C) a water-soluble organic compound having one or more unshared electron pairs in the molecule.
(FR)L'invention concerne une composition à base de matière de stockage thermique caractérisée en ce qu'elle comprend les trois composants suivants: (A) triméthyloléthane; (B) de l'eau; et (C) un composé organique hydrosoluble dont la molécule comporte une ou plusieurs paires d'électrons non partagés.
États désignés : Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)