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1. (WO2000051714) TRAITEMENT DE MILIEU GAZEUX A L'AIDE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/051714    N° de la demande internationale :    PCT/GB2000/000714
Date de publication : 08.09.2000 Date de dépôt international : 28.02.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.07.2000    
CIB :
B01D 53/32 (2006.01), B01D 53/92 (2006.01), B01D 53/94 (2006.01), B01J 12/00 (2006.01), B01J 15/00 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), B01J 19/24 (2006.01), F01N 3/01 (2006.01), F01N 3/08 (2006.01), F01N 3/28 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : ACCENTUS PLC [GB/GB]; 329 Harwell, Didcot, Oxfordshire OX11 0RA (GB) (Tous Sauf US).
INMAN, Michael [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : INMAN, Michael; (GB)
Mandataire : LOFTING, Marcus, John; Accentus PLC, Patents Dept., 329 Harwell, Didcot, Oxfordshire OX11 0QJ (GB)
Données relatives à la priorité :
9904640.1 02.03.1999 GB
Titre (EN) PLASMA-ASSISTED PROCESSING OF GASEOUS MEDIA
(FR) TRAITEMENT DE MILIEU GAZEUX A L'AIDE DE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A reactor for the plasma-assisted processing of a gaseous medium, including a pair of electrodes (1, 2) having facing surfaces the separation of which is substantially uniform, with a body (5) of dielectric material positioned between them and defining a plurality of gas passages (6) extending through the space between the electrodes.
(FR)La présente invention concerne un réacteur destiné au traitement de milieu gazeux à l'aide de plasma, comprenant une paire d'électrodes (1, 2), face à face, dont la séparation, sensiblement constante, est réalisée à l'aide d'un diélectrique (5) placé entre elles et définissant plusieurs passages de gaz (6) qui s'étendent dans l'espace interélectrodes.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)