Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2000029807 - SYSTEME DE DETECTION POUR MESURES TOPOGRAPHIQUES A ECHELLE NANOMETRIQUE DE SURFACES REFLECHISSANTES

Numéro de publication WO/2000/029807
Date de publication 25.05.2000
N° de la demande internationale PCT/US1999/027464
Date du dépôt international 18.11.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 13.06.2000
CIB
G01N 21/95 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
CPC
G01N 21/9501
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
9501Semiconductor wafers
Déposants
  • KLA-TENCOR CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • NEILSEN, Heinrik, K.
  • KUHLMANN, Lionel
  • NOKES, Mark
Mandataires
  • SMYRSKI, Steven, W.
Données relatives à la priorité
09/195,53318.11.1998US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) DETECTION SYSTEM FOR NANOMETER SCALE TOPOGRAPHIC MEASUREMENTS OF REFLECTIVE SURFACES
(FR) SYSTEME DE DETECTION POUR MESURES TOPOGRAPHIQUES A ECHELLE NANOMETRIQUE DE SURFACES REFLECHISSANTES
Abrégé
(EN)
A linear position array detector (117) system is provided which imparts light energy to a surface of a specimen (110), such as a semiconductor wafer, receives light energy from the specimen surface and monitors deviation of the retro or reflected beam from that expected to map the contours on the specimen surface. The retro beam will, with ideal optical alignment, return along the same path as the incident beam if and only if the surface is normal to the beam. The system has a measurement device or sensor (117) within the path of the retro or reflected beam to measure deviation of the retro beam from expected. The sensor is preferably a multiple element array of detector-diodes aligned in a linear fashion. A unique weighting and summing scheme is provided which increases the mechanical dynamic range while preserving sensitivity. The system further includes a bright field Nomarski Differential Interference Contrast sensor used to split the beam into two beams and for scanning in an orientation orthogonal to the orientation of the optical lever created by the system.
(FR)
L'invention concerne un système de détection à réseau linéaire. Ce système transmet de l'énergie lumineuse à la surface d'un spécimen, tel qu'une tranche de semi-conducteur, reçoit de l'énergie lumineuse de la surface du spécimen et surveille la déviation du faisceau rétroréfléchi ou réfléchi par rapport à la trajectoire attendue afin de cartographier les contours sur la surface du spécimen. Selon l'alignement optique idéal, le faisceau rétroréfléchi retourne le long de la même trajectoire que le faisceau incident si, et seulement si, la surface est perpendiculaire au faisceau. Ce système comporte un dispositif ou un capteur de mesure situé dans la trajectoire du faisceau rétroréfléchi ou réfléchi afin de mesurer la déviation du faisceau par rapport à sa trajectoire attendue. Le capteur est de préférence un réseau à éléments multiples de diodes de détection alignées linéairement. Ce système comprend un mécanisme unique de pondération et de sommation permettant d'augmenter la plage dynamique mécanique tout en préservant sa sensibilité. Ce système comprend également un capteur de contraste d'interférence différentielle de Nomarski à fond clair servant à diviser le faisceau en deux et à balayer dans un sens perpendiculaire au sens du levier optique créé par le système.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international