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1. (WO2000016160) COMPOSITION RADIOSENSIBLE POSITIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/016160    N° de la demande internationale :    PCT/JP1999/004850
Date de publication : 23.03.2000 Date de dépôt international : 07.09.1999
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 2-1, Nihonbashi Muromachi 2-chome Chuo-ku Tokyo 103-8666 (JP) (Tous Sauf US).
TAMURA, Kazutaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAMURA, Kazutaka; (JP)
Données relatives à la priorité :
10/256937 10.09.1998 JP
Titre (EN) POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION RADIOSENSIBLE POSITIVE
Abrégé : front page image
(EN)A positive radiation-sensitive composition comprising a polymer whose solubility in an aqueous alkali solution increases by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, characterized in that the polymer is more susceptible to radiation-induced backbone cleavage than poly(methyl methacrylate); or a positive radiation-sensitive composition comprising an alkali-soluble polymer, a compound which has the effect of reducing the alkali solubility of the polymer and in which the effect is lessened or eliminated by the action of an acid, and a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, characterized in that the polymer is more susceptible to radiation-induced backbone cleavage than poly(methyl methacrylate). The composition is a high-sensitivity composition having such high resolution that patterns with a line width smaller than a quarter micrometre can be formed therefrom.
(FR)La présente invention concerne une composition radiosensible positive comprenant, d'une part un polymère dont la solubilité en solution alcaline aqueuse augmente sous l'effet d'un acide, et d'autre part un composé générant un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement. Cette composition est caractérisée en ce que le polymère est plus susceptible que le poly(méthyle méthacrylate) au clivage de dorsale induit par le rayonnement. L'invention concerne également une composition radiosensible positive comprenant, d'une part un polymère soluble en milieu alcalin, d'autre part un composé ayant l'effet de réduire la solubilité en milieu alcalin du polymère, lequel effet étant atténué ou supprimé par l'action d'un acide, et enfin un composé générant un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement. Cette dernière composition est caractérisée en ce que le polymère est plus susceptible que le poly(méthyle méthacrylate) au clivage de dorsale induit par le rayonnement. Cette composition, qui se distingue par sa sensibilité élevée, présente un pouvoir de résolution si élevé qu'elle convient à la formation de dessins dont l'épaisseur du trait peut descendre jusqu'à un quart de micromètre.
États désignés : CN, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)