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1. (WO2000015359) APPAREIL ET PROCEDE POUR SYSTEMES DE NETTOYAGE ET DE SECHAGE DE PRECISION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/015359    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/020844
Date de publication : 23.03.2000 Date de dépôt international : 10.09.1999
CIB :
B08B 3/10 (2006.01), B08B 3/12 (2006.01), H05K 3/22 (2006.01), H05K 3/26 (2006.01)
Déposants : FORWARD TECHNOLOGY INDUSTRIES, INC. [US/US]; 13500 County Road 6 Minneapolis, MN 55441 (US)
Inventeurs : MOUSER, Wayne; (US).
HONECK, Randy; (US).
BARTELL, Matthew; (US)
Mandataire : KEOUGH, Steven, J.; Patterson & Keough, P.A. 4800 IDS Center 80 South 8th Street Minneapolis, MN 55402-2100 (US)
Données relatives à la priorité :
60/099,953 11.09.1998 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR PRECISION CLEANING AND DRYING SYSTEMS
(FR) APPAREIL ET PROCEDE POUR SYSTEMES DE NETTOYAGE ET DE SECHAGE DE PRECISION
Abrégé : front page image
(EN)A chamber (20) having selectable and controllable access through which a process part (31) is placed within and removed from a processing system (10). The chamber (20) is designed to selectively isolate the external and internal environments of the process system (10) during delivery and removal of the process part (31).
(FR)L'invention concerne une chambre (20) pourvue d'un accès pouvant être sélectionné et commandé, une partie de traitement (31) étant placée dans un système de traitement et retirée de celui-ci. La chambre (20) est conçue de manière à isoler sélectivement les environnements intérieur et extérieur du système de traitement (10) pendant l'administration et le retrait de la partie de traitement (31).
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)