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1. (WO2000014126) SYSTEME CHROMOPHORE PHOTOSTABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/014126    N° de la demande internationale :    PCT/EP1999/006323
Date de publication : 16.03.2000 Date de dépôt international : 27.08.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.03.2000    
CIB :
C08F 8/30 (2006.01), G03C 1/815 (2006.01)
Déposants : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. [CH/CH]; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH) (Tous Sauf US).
ELDIN, Sameer [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : ELDIN, Sameer; (CH)
Représentant
commun :
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.; Patentabteilung, Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
1845/98 09.09.1998 CH
Titre (DE) PHOTOSTABILES CHROMOPHOR-SYSTEM
(EN) PHOTOSTABLE CHROMOPHORE SYSTEM
(FR) SYSTEME CHROMOPHORE PHOTOSTABLE
Abrégé : front page image
(DE)Zusammensetzung, enthaltend in der gegebenen Reihenfolge: (a) eine Chromophor-Schicht, (b) eine Lichtschutzmittel-Schicht, (c) eine Sauerstoff-Barriere-Schicht und (d) gewünschtenfalls ein Polymer als Klarlackschutzschicht sowie Verfahren zur Herstellung, andere Zusammensetzungen und Verwendungen.
(EN)The invention relates to a composition containing the following in the order given: (a) a chromophore layer; (b) a light protection agent layer; (c) an oxygen barrier layer and (d) optionally, a polymer which forms a protective layer of varnish. The invention also relates to a method for producing the inventive system, to other compositions and to uses for the inventive system.
(FR)L'invention concerne une composition contenant dans l'ordre suivant: (a) une couche chromophore; (b) une couche d'agent de protection contre la lumière; (c) une couche barrière d'oxygène et (d) éventuellement un polymère qui forme une couche protectrice de vernis transparent. L'invention concerne également son procédé de production, d'autres compositions et d'autres utilisations.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)