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1. (WO2000013200) MICROSCOPE ELECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/013200    N° de la demande internationale :    PCT/NL1999/000535
Date de publication : 09.03.2000 Date de dépôt international : 27.08.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.03.2000    
CIB :
H01J 37/05 (2006.01), H01J 37/153 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Déposants : TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT [NL/NL]; Julianalaan 134 NL-2628 BL Delft (NL) (Tous Sauf US).
KRUIT, Pieter [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MOOK, Hindrik, Willem [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : KRUIT, Pieter; (NL).
MOOK, Hindrik, Willem; (NL)
Mandataire : VAN BREDA, Jacques; Octrooibureau Los en Stigter B.V. Weteringschans 96 NL-1017 XS Amsterdam (NL)
Données relatives à la priorité :
1009959 28.08.1998 NL
Titre (EN) ELECTRON MICROSCOPE
(FR) MICROSCOPE ELECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An electron microscope provided with an electron source; an energy-dispersive element; an accelerating tube; a plate mounted between the energy-dispersive element and the specimen, in which a selection slit is provided at right angles to the dispersive direction of the dispersive element; source imaging electron optics for obtaining an image of a source in the plane of the plate comprising the selection slit. In addition to the selection slit, the plate comprises a plurality of further apertures useful for the determination of the cross-sectional form of the beam; and the electron microscope comprises means for the determination of the intensity of the beam being transmitted through and/or onto the plate, so that subject thereto, setting parameters of the energy-dispersive element and the source imaging electron optics can be aligned. The dimensions of the apertures are in the nanometric range and the plate constitutes a thin membrane placed at a position where the electron's kinetic energy is so low that it can be blocked by the thin membrane. Further, the plate is positioned directly after the energy-dispersive element and the source imaging electron optics.
(FR)La présente invention concerne un microscope électronique comprenant une source d'électrons, un élément à dispersion d'énergie, un tube accélérateur et une plaque. Cette plaque est montée entre l'échantillon et l'élément à dispersion d'énergie, et comprend une fente de sélection placée à angle droit par rapport à la direction de dispersion de l'élément. Le microscope électronique comprend aussi des optiques électroniques d'imagerie de source afin d'obtenir une image de la source dans le plan de la plaque comprenant la fente de sélection. En plus de la fente de sélection, la plaque comprend une pluralité d'ouvertures supplémentaires utiles dans le but de déterminer la forme du faisceau en coupe transversale. Le microscope électronique comprend aussi des moyens de détermination de l'intensité du faisceau transmis à travers et/ou sur la plaque, ce qui permet d'aligner les paramètres de réglage de l'élément à dispersion d'énergie et les optiques électroniques d'imagerie de source. Les dimensions des ouvertures sont situées dans le domaine nanométrique et la plaque est sous forme d'une membrane mince placée à une position pour laquelle l'énergie cinétique des électrons est si faible que cette membrane peut les bloquer. En outre, la plaque est positionnée directement après l'élément à dispersion d'énergie et les optiques électroniques d'imagerie de source.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : néerlandais; flamand (NL)