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1. (WO2000012647) PARTICULES ABRASIVES DE DIAMANT ET LEUR PROCEDE DE PREPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/012647    N° de la demande internationale :    PCT/JP1999/004684
Date de publication : 09.03.2000 Date de dépôt international : 30.08.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.03.2000    
CIB :
C09K 3/14 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : ISHIZUKA, Hiroshi [JP/JP]; (JP)
Inventeurs : ISHIZUKA, Hiroshi; (JP)
Mandataire : YAGITA, Shigeru; Bussan Building Bekkan 1-15, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-0003 (JP)
Données relatives à la priorité :
10/281880 28.08.1998 JP
11/170290 16.06.1999 JP
Titre (EN) DIAMOND ABRASIVE PARTICLES AND METHOD FOR PREPARING THE SAME
(FR) PARTICULES ABRASIVES DE DIAMANT ET LEUR PROCEDE DE PREPARATION
Abrégé : front page image
(EN)Diamond abrasive particles which are prepared from a diamond synthesized under a static extra-high pressure, have a heat-affected structure formed by a heat treatment at 1000 °C or higher, comprise a nonagglomerative aggregate of fine single diamond crystal particles having a mean particle diameter (D 50 value) of 5 $g(m)m or less, and have a diamond surface covered with 0.5 mass % relative to the whole diamond particle of a non-diamond carbon; and a method for preparing modified diamond abrasive particles, characterized in that diamond particles having a mean particle diameter (D 50 value) of 50 nm or more are heat-treated at a temperature of 1000 °C or higher in a non-oxydizing atmosphere or under vacuum so that the surface of the diamond particles are partially converted to a non-diamond carbon. The aforementioned diamond abrasive particles and a method for preparing modified diamond abrasive particles provide abrasive particles of fine single crystal type which are prepared from a diamond synthesized under a static extra-high pressure and, in spite of that, satisfy all of the following requirements for abrasive grains for use in slurry processing: (1) a large amount of a material can be processed in a unit of time, (2) the surface roughness of a processed surface is small, and (3) when a soft material is processed, the number of abrasive grains remaining on a processed surface is small, and a method of preparing such particles.
(FR)L'invention porte sur des particules abrasives de diamant qui sont préparées à partir d'un diamant synthétisé sous une pression statique extrêmement élevée. Ces particules présentent une structure sensible à la chaleur, formée par traitement thermique à 1000 °C ou plus, et constituent un agrégat non agglomérant de fines particules individuelles cristallines de diamant dont le diamètre moyen (valeur D 50) est inférieur ou égal à 5 $g(m)m et dont l'enrobage superficiel est de 0,5 % en masse par rapport à la totalité de la particule d'un carbone exempt de diamant. L'invention porte également sur un procédé de préparation de particules abrasives de diamant modifiées qui se caractérisent en ce que leur diamètre moyen (valeur 50 D) est supérieur ou égal à 50 nm. Selon ce procédé, ces particules sont traitées thermiquement à une température de 1000 °C ou plus dans une atmosphère non oxydante ou sous vide de sorte que leur surface soit partiellement transformée en un carbone exempte de diamant. Le procédé de préparation des particules abrasives de diamant précitées permet d'obtenir des particules abrasives d'un type cristallin, unique, fin, qui sont préparées à partir d'un diamant synthétisé sous une pression statique extrêmement élevée, et qui, en dépit de cela, répondent aux exigences suivantes concernant des grains abrasifs destinés à être utilisés dans le traitement des boues: (1) une grande quantité de matière peut être traitée dans une unité de temps, (2) la rugosité d'une surface traitée est faible, et (3) lorsqu'on traite un matériau mou, le nombre de grains abrasifs restant sur une surface traitée est faible.
États désignés : BR, CA, KR, MX, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)