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1. (WO2000012640) FLUIDE DE REVETEMENT POUR PREPARER UN FILM DE REVETEMENT A BASE DE SILICE A FAIBLE PERMITTIVITE ET SUBSTRAT AVEC FILM DE REVETEMENT A FAIBLE PERMITTIVITE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/012640    N° de la demande internationale :    PCT/JP1999/004050
Date de publication : 09.03.2000 Date de dépôt international : 28.07.1999
CIB :
C09D 183/04 (2006.01), H01L 21/3105 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01)
Déposants : CATALYSTS & CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 580, Horikawa-cho Saiwai-ku Kawasaki-shi Kanagawa 210-0913 (JP) (Tous Sauf US).
NAKASHIMA, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMATSU, Michio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKASHIMA, Akira; (JP).
KOMATSU, Michio; (JP)
Mandataire : SUZUKI, Shunichiro; Suzuki & Associates Gotanda Yamazaki Building 6F 13-6, Nishigotanda 7-chome Shinagawa-ku Tokyo 141-0031 (JP)
Données relatives à la priorité :
10/247430 01.09.1998 JP
11/96367 02.04.1999 JP
Titre (EN) COATING FLUID FOR FORMING LOW-PERMITTIVITY SILICA-BASED COATING FILM AND SUBSTRATE WITH LOW-PERMITTIVITY COATING FILM
(FR) FLUIDE DE REVETEMENT POUR PREPARER UN FILM DE REVETEMENT A BASE DE SILICE A FAIBLE PERMITTIVITE ET SUBSTRAT AVEC FILM DE REVETEMENT A FAIBLE PERMITTIVITE
Abrégé : front page image
(EN)A coating fluid capable of forming a silica-based coating film having a relative permittivity as low as 3 or below and a low density and excellent in resistance to oxygen plasma and suitability for other processings; and a substrate having a coating film having such properties. The coating fluid is characterized by comprising a polymer composition comprising (i) a polysiloxane which is a product of the reaction of fine silica particles with a hydrolyzate of at least one alkoxysilane represented by following general formula (I) and (ii) a readily decomposable resin; X¿n?Si(OR)¿4-n? (wherein X represents hydrogen, flourine, C¿1-8? alkyl, flouroalkyl, aryl, or vinyl; R represents hydrogen, C¿1-8? alkyl, aryl, or vinyl; and n is an integer of 0 to 3).
(FR)La présente invention concerne un fluide de revêtement capable de former un film de revêtement à base de silice présentant une permittivité relative de faible niveau, égal ou inférieur à 3, et une faible densité, ainsi qu'une excellente résistance au plasma d'oxygène, et convenant à d'autres traitements; cette invention concernant également un substrat avec film de revêtement présentant de tels propriétés. Le fluide de revêtement est caractérisé en ce qu'il renferme une composition polymère contenant (i) un polysiloxane, produit de réaction de fines particules de silice avec un hydrolysat d'au moins un alcoxysilane représenté par la formule générale (I) X¿n?Si(OR)¿4-n?, et (ii) une résine facilement décomposable. Dans cette formule, X représente hydrogène, fluorine, C¿1-8? alkyle, fluoroalkyle, aryle, ou vinyle; R représente hydrogène, C¿1-8? alkyle, aryle, ou vinyle; et n représente un nombre entier compris entre 0 et 3.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (DE, GB, NL).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)