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1. (WO2000012231) PROCEDE D'ELIMINATION DE MATIERES ORGANIQUES DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/012231    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/019018
Date de publication : 09.03.2000 Date de dépôt international : 20.08.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.03.2000    
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : ANON, INC. [US/US]; 1930 Junction Avenue San Jose, CA 95131 (US)
Inventeurs : WALEH, Ahmad; (US).
LEVENSON, Eric, O.; (US)
Mandataire : COLLINS, David, W.; 75 West Calle de las Tiendas Suite 125B Green Valley, AZ 85614 (US)
Données relatives à la priorité :
09/141,443 27.08.1998 US
Titre (EN) METHOD OF REMOVING ORGANIC MATERIALS FROM SUBSTRATES
(FR) PROCEDE D'ELIMINATION DE MATIERES ORGANIQUES DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)Water-free, gaseous sulfur trioxide is used as an agent to remove various organic coatings, films and residues from the surface of substrate when used in conjunction with certain other physical and chemical treatments (10, 14, 16, and 18) applied at the appropriate time during the process.
(FR)L'invention concerne le trioxyde de soufre gazeux, exempt d'eau, en tant qu'agent pour éliminer divers revêtements, couches minces et résidus organiques de la surface d'un substrat, lorsqu'il est utilisé conjointement avec certains autres traitements physiques et chimiques (10, 14, 16 et 18) appliqués au moment approprié durant le processus.
États désignés : CA, CN, IL, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)