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1. (WO2000010736) IMPRESSION DE CIRCUITS ET COMPOSANTS ELECTRONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/010736    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/025088
Date de publication : 02.03.2000 Date de dépôt international : 24.11.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.03.2000    
CIB :
H01C 17/06 (2006.01), C23C 18/16 (2006.01), H01F 17/00 (2006.01), H01G 4/228 (2006.01), H01G 4/33 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01), H01M 10/04 (2006.01), H05K 1/16 (2006.01), H05K 3/10 (2006.01), H01L 51/40 (2006.01), H01M 10/36 (2010.01), H01M 6/40 (2006.01), H05K 3/12 (2006.01)
Déposants : SRI INTERNATIONAL [US/US]; 333 Ravenswood Avenue Menlo Park, CA 94025 (US) (Tous Sauf US).
NARANG, Subhash [US/US]; (US) (US Seulement).
SHARMA, Sunity [IN/US]; (US) (US Seulement).
COX, Philip [GB/US]; (US) (US Seulement).
VENTURA, Susanna [IT/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : NARANG, Subhash; (US).
SHARMA, Sunity; (US).
COX, Philip; (US).
VENTURA, Susanna; (US)
Mandataire : FISH, Robert, D.; Fish & Associates, LLP Suite 706 1440 N. Harbor Boulevard Fullerton, CA 92835 (US)
Données relatives à la priorité :
60/097,706 21.08.1998 US
Titre (EN) PRINTING OF ELECTRONIC CIRCUITS AND COMPONENTS
(FR) IMPRESSION DE CIRCUITS ET COMPOSANTS ELECTRONIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Methods are disclosed for printing (2-7) multilayer electronic components, and circuits on a surface (2), where at least one of the layers is formed by a redox reaction (6) occurring in a deposited solution (4, 5). Electronic components may comprise semiconductors such as in transistors or diode, or metal oxide or electrolyte such as in batteries or fuel cells, or are capacitors, inductors, and resistors. Preferably, the oxidizer of the redox reaction is a strong oxidizer, and the reducer is a strong reducer (3). Reactions are preferably sufficiently exothermic that they can be initiated (6), rather than driven to completion, by microwave or other suitable energy sources, and may yield substantially pure metal or metal oxide layers. The solution being deposited (5) may have either high concentrations of particulates, such as 60-80 wt.% of dry weight, or low concentrations of particulates, such as $m(F)5 wt.% or $m(F)2 wt.%. Low particulate content provides printing of structures having lateral resolution of $m(F)10 $g(m)m, $m(F)5 $g(m)m, or $m(F)1 $g(m)m.
(FR)L'invention concerne des procédés d'impression (2-7) de composants électroniques multicouche et de circuits sur une surface (2), une des couches au moins étant réalisée par une réaction d'oxydoréduction (6) ayant lieu dans une solution déposée (4, 5). Les composants électroniques peuvent comprendre des semi-conducteurs comme par exemple ceux qui se trouvent dans les transistors ou diodes, un oxyde métallique ou un électrolyte comme ceux que l'on trouve dans les piles ou les piles à combustible ou des condensateurs, inducteurs et résistances. L'oxydant de la réaction d'oxydoréduction est de préférence un puissant oxydant et le réducteur est un puissant réducteur (3). Les réactions sont de préférence suffisamment exothermiques pour pouvoir être mises en route (6) plutôt que terminées par des micro-ondes ou d'autres sources d'énergies adéquates. Ces réactions produisent des couches métalliques pures ou d'oxydes métalliques. La solution déposée (5) peut présenter de fortes concentrations de particules, entre 60 et 80 % en poids sec ou de faibles concentrations de particules inférieures ou égales à 5 % en poids ou inférieures ou égales à 2 % en poids. Une faible concentration en particules assure une impression de structure dont la résolution latérale est inférieure ou égale à 10 $g(m)m, inférieure ou égale à 5 $g(m)m ou inférieure ou égale à 1 $g(m)m.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)