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1. WO2000010058 - SYSTEME D'ISOLEMENT DE FORCES DE REACTION POUR MOTEUR PLANAR

Numéro de publication WO/2000/010058
Date de publication 24.02.2000
N° de la demande internationale PCT/US1999/018480
Date du dépôt international 12.08.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 13.03.2000
CIB
F16F 15/02 2006.1
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
16ÉLÉMENTS OU ENSEMBLES DE TECHNOLOGIE; MESURES GÉNÉRALES POUR ASSURER LE BON FONCTIONNEMENT DES MACHINES OU INSTALLATIONS; ISOLATION THERMIQUE EN GÉNÉRAL
FRESSORTS; AMORTISSEURS; MOYENS POUR AMORTIR LES VIBRATIONS
15Suppression des vibrations dans les systèmes; Moyens ou dispositions pour éviter ou réduire les forces de déséquilibre, p.ex. dues au mouvement
02Suppression des vibrations dans les systèmes non rotatifs, p.ex. dans des systèmes alternatifs; Suppression des vibrations dans les systèmes rotatifs par l'utilisation d'organes ne se déplaçant pas avec le système rotatif
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
F16F 15/02
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
FSPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
15Suppression of vibrations in systems
02Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
G03F 7/70358
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
G03F 7/70716
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70716Stages
G03F 7/70758
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70758Drive means, e.g. actuator, motor
G03F 7/70833
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
G03F 7/709
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • HAZELTON, Andrew, J. [US]/[US] (UsOnly)
  • HAYASHI, Yutaka [JP]/[JP] (UsOnly)
  • TANAKA, Keiichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • ITO, Nobukazu [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • HAZELTON, Andrew, J.
  • HAYASHI, Yutaka
  • TANAKA, Keiichi
  • ITO, Nobukazu
Mandataires
  • LIU, Wen
Données relatives à la priorité
09/134,27814.08.1998US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) REACTION FORCE ISOLATION SYSTEM FOR A PLANAR MOTOR
(FR) SYSTEME D'ISOLEMENT DE FORCES DE REACTION POUR MOTEUR PLANAR
Abrégé
(EN) The present invention provides a structure (60) for isolating the reaction forces generated by a planar motor (30). Specifically, the fixed portion (50) of the reaction motor (30), which is subject to reaction forces, is structurally isolated from the rest of the system in which the planar motor (30) is deployed. In accordance with one embodiment of the present invention, the fixed portion (50) of the planar motor (30) is separated from the rest of the system and coupled to ground. The rest of the system is isolated from ground by deploying vibration isolation elements (60). Alternatively or in addition, the fixed portion (50) of the planar motor (30) may be structured to move (e.g., on bearings) in the presence of reaction forces, so as to absorb the reaction forces with its inertia. In a further embodiment of the present invention, the fixed portion (50) of the planar motor (30) and the article (12) to be moved are supported by the same frame (52), with the fixed portion (50) of the planar motor (30) movable on bearings.
(FR) La présente invention concerne une structure (60) servant à isoler les forces de réaction produites par un moteur planar (30). Spécifiquement, la partie fixe du moteur de réaction (50), qui est soumise à des forces de réaction (30), est isolée par sa structure du reste du système dans lequel le moteur planar est installé. Selon un mode de réalisation de l'invention, la partie fixe du moteur planar (30) est séparée du reste du système et reliée au sol. Le reste du système est isolé du sol par l'installation d'un dispositif d'isolement antivibratoire (60). Dans une forme de réalisation substitutive ou complémentaire, la partie fixe (50) du moteur planar (30) peut être structurée de façon à se déplacer (p. ex. sur roulements) en présence de forces de réaction afin d'absorber les forces de réaction par son inertie. Dans une autre forme de réalisation de l'invention, la partie fixe (50) du moteur planar (30) et l'article à déplacer sont soutenus par le même cadre (52), la partie fixe (50) du moteur planar (30) pouvant se déplacer sur des roulements.
Documents de brevet associés
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