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1. (WO1999054786) MASQUE ELASTOMERE ET SON UTILISATION DANS LA FABRICATION DE DISPOSITIFS, DONT DES AFFICHEURS ELECTROLUMINESCENTS PIXELISES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/1999/054786 N° de la demande internationale : PCT/US1999/008623
Date de publication : 28.10.1999 Date de dépôt international : 20.04.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 28.10.1999
CIB :
B41C 1/14 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/12 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
C
PROCÉDÉS DE FABRICATION OU DE REPRODUCTION DES SURFACES D'IMPRESSION
1
Préparation de la forme ou du cliché
14
pour l'impression au stencil ou à l'écran de soie
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1
Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
32
en utilisant des moyens pour protéger des parties de surface à ne pas recouvrir, p.ex. en se servant de stencils, d'enduits de protection
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
12
Production de formes d'impression pour sérigraphie ou de formes d'impression similaires, p.ex. stencils
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
28
comprenant des composants qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux
32
avec des composants spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. panneaux d'affichage plats utilisant des diodes émettrices de lumière organiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
Déposants :
JACKMAN, Rebecca, J. [GB/US]; US (UsOnly)
DUFFY, David, C. [GB/US]; US (UsOnly)
WHITESIDES, George, M. [US/US]; US (UsOnly)
VAETH, Kathleen, M. [US/US]; US (UsOnly)
JENSEN, Klavs, F. [US/US]; US (UsOnly)
PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; Holyoke Center Suite 727 1350 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02138, US (AllExceptUS)
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US (AllExceptUS)
Inventeurs :
JACKMAN, Rebecca, J.; US
DUFFY, David, C.; US
WHITESIDES, George, M.; US
VAETH, Kathleen, M.; US
JENSEN, Klavs, F.; US
Mandataire :
OYER, Timothy, J.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Données relatives à la priorité :
09/063,74221.04.1998US
Titre (EN) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
(FR) MASQUE ELASTOMERE ET SON UTILISATION DANS LA FABRICATION DE DISPOSITIFS, DONT DES AFFICHEURS ELECTROLUMINESCENTS PIXELISES
Abrégé :
(EN) An elastomeric mask is provided that allows deposition of a variety of materials through mask openings. The mask seals effectively against substrate surfaces, allowing simple deposition from fluid phase, gas phase, and the like or removal of material using gaseous or liquid etchants. The mask then can be simply peeled from the surface of the substrate leaving the patterned material behind. Multi-layered mask techniques are described in which openings in an upper mask allow selected openings of a lower mask to remain unshielded, while other openings of the lower mask are shielded. A first deposition step, followed by re-orientation of the upper mask to expose a different set of lower mask openings, allows selective deposition of different materials in different openings of the lower mask. Pixelated organic electroluminescent devices are provided via the described technique.
(FR) L'invention concerne un masque élastomère permettant le dépôt d'une variété de matériaux par les ouvertures du masque. Le masque vient en contact étanche efficace contre les surfaces du substrat, ce qui permet le dépôt simple à partir de phase gazeuse ou liquide et similaire ou le retrait de matériaux au moyen d'agents de gravure gazeux ou liquides. Le masque peut ensuite être simplement pelés de la surface du substrat, seul le matériau à motif subsistant. Des techniques de masquage multicouche sont décrites, dans lesquelles des ouvertures présentes dans un masque supérieur permettent aux ouvertures sélectionnées d'un masque inférieur de rester exposées, alors que d'autres ouvertures du masque inférieur reste protégées. Une première étape de dépôt, suivie de la réorientation du masque supérieur pour permettre l'exposition d'un ensemble différent d'ouvertures du masque inférieur, permet le dépôt sélectif de différents matériaux dans différentes ouvertures du masque inférieur. Des dispositifs organiques électroluminescents pixélisés sont produits au moyen de la technique décrite.
États désignés : CA, JP, US
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)