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1. (WO1999054694) PROCEDE ET DISPOSITIF DE SURVEILLANCE DES OPERATIONS DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/054694    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/008894
Date de publication : 28.10.1999 Date de dépôt international : 23.04.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.11.1999    
CIB :
G01J 3/00 (2006.01), G01J 3/28 (2006.01), G01J 3/443 (2006.01)
Déposants : SANDIA CORPORATION [US/US]; P.O. Box 5800, Mail Stop 0161, Albuquerque, NM 87185-0161 (US)
Inventeurs : SMITH, Michael, Lane, Jr.; (US).
STEVENSON, Joel, O'Don; (US).
WARD, Pamela, Denise, Peardon; (US)
Mandataire : JOHNSON, James, L.; Holme Roberts & Owen LLP, Suite 4100, 1700 Lincoln Street, Denver, CO 80203-4541 (US)
Données relatives à la priorité :
09/065,203 23.04.1998 US
09/064,966 23.04.1998 US
09/065,245 23.04.1998 US
09/065,006 23.04.1998 US
09/065,359 23.04.1998 US
09/064,793 23.04.1998 US
09/064,957 23.04.1998 US
09/065,680 23.04.1998 US
09/064,991 23.04.1998 US
09/065,257 23.04.1998 US
09/065,307 23.04.1998 US
09/065,274 23.04.1998 US
09/064,970 23.04.1998 US
09/065,247 23.04.1998 US
09/064,965 23.04.1998 US
09/065,195 23.04.1998 US
09/065,362 23.04.1998 US
09/064,972 23.04.1998 US
09/065,358 23.04.1998 US
09/290,903 12.04.1999 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING PLASMA PROCESSING OPERATIONS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE SURVEILLANCE DES OPERATIONS DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)The invention generally relates to various aspects of a plasma process, and more specifically the monitoring of such plasma processes. One aspect relates in some manner to calibrating or initializing a plasma monitoring assembly (174). This type of calibration may be used to address wavelength shifts, intensity shifts, or both associated with optical emissions data obtained on a plasma process. A calibration light may be directed at a window (124) through which optical emissions data is being obtained to determine the effect, if any, that the inner surface of the window is having on the optical emissions data being obtained therethrough, the operation of the optical emissions data gathering device, or both. Another aspect relates in at least some manner to various types of evaluations which may be undertaken of a plasma process which was run, and more typically one which is currently being run, within the processing chamber (74).
(FR)L'invention se rapporte à divers aspects d'un processus de traitement au plasma et plus particulièrement à la surveillance de tels processus de traitement au plasma. Un de ces aspects est relatif au moins en partie à l'étalonnage et à l'initialisation d'un ensemble de traitement au plasma (174). Ce type d'étalonnage peut servir à gérer les décalages de longueurs d'ondes, les décalages d'intensités ou les deux, associés aux données d'émissions optiques fournies par un processus au plasma. Il est possible de diriger une lumière destinée à l'étalonnage sur une fenêtre (124) à travers laquelle les données d'émissions optiques sont recueillies afin de déterminer l'effet éventuel que la surface interne de la fenêtre possède sur les données d'émissions optiques en cours d'obtention, sur le fonctionnement du dispositif recueillant les données d'émissions optiques ou sur les deux. Un autre aspect est relatif au moins en partie à divers types d'évaluations qu'il est possible d'effectuer sur un processus au plasma qui a été exécuté, et plus particulièrement sur un processus en cours d'exécution, au sein de la chambre de traitement (74).
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)