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1. (WO1999052821) PROCEDE POUR PURIFIER DES SOLUTIONS DE SILICATE DE METAL ALCALIN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/052821    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/008107
Date de publication : 21.10.1999 Date de dépôt international : 14.04.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.11.1999    
CIB :
C01B 33/20 (2006.01)
Déposants : PQ HOLDING, INC. [US/US]; 103 Springer Building 3411 Silverside Road Wilmington, DE 19803 (US)
Inventeurs : BASS, Jonathan, L.; (US).
DADE-FIGUEROA, Tanya; (US)
Mandataire : LEWIS, Christopher, R.; Ratner & Prestia 301 One Westlakes (Berwyn) P.O. Box 980 Valley Forge, PA 19482-0980 (US)
Données relatives à la priorité :
09/061,825 16.04.1998 US
Titre (EN) METHOD FOR PURIFYING ALKALI METAL SILICATE SOLUTIONS
(FR) PROCEDE POUR PURIFIER DES SOLUTIONS DE SILICATE DE METAL ALCALIN
Abrégé : front page image
(EN)A method for purifying commercial alkali metal silicate solutions involves passing the alkali metal silicate solution through a nanofiltration device having a membrane with a molecular weight cutoff of between about 400 to about 3,000 daltons. Preferably, the molecular weight cutoff is between about 400 and about 1,000 daltons and, more preferably, between about 400 and about 800 daltons. In this way, a large portion of impurities in alkali metal silicate solutions, which tend to become associated with higher molecular weight silicates, can be removed. A pressure differential may be used to drive the solution across the device, from which a permeate is withdrawn as a purified alkali metal silicate solution. The retentate from the device is preferably recycled to the feed alkali metal silicate solution to form a mixture, and the mixture is introduced to the nanofiltration device. Two or more devices, of decreasing molecular weight cutoff, may be used in series to obtain a more concentrated form of a purified silicate solution. When two devices are used, the second device has a molecular weight cutoff sufficient to allow water molecules to pass but to retain most of the remaining molecules. In order to achieve this, a molecular weight cutoff of approximately 100 to 600 daltons and, preferably, from about 150 to about 400 daltons, is suitable.
(FR)L'invention concerne un procédé pour purifier des solutions commerciales de silicate de métal alcalin. Le procédé consiste à faire passer la solution de silicate de métal alcalin à travers un dispositif de nanofiltration qui comprend une membrane présentant un seuil de rétention des molécules compris entre environ 400 et 3000 daltons. De préférence, le seuil de rétention des molécules se situe entre environ 400 et 1000 daltons ou, mieux encore, entre environ 400 et 800 daltons. On peut ainsi éliminer une grande partie des impuretés présentes dans les solutions de silicate de métal alcalin et tendant à se mélanger avec des silicates de poids moléculaire supérieur. Une pression différentielle peut être mise en oeuvre pour faire passer la solution à travers le dispositif, duquel on retire un perméat sous forme de solution purifiée de silicate de métal alcalin. Le retentat resté dans le dispositif est, de préférence, recyclé vers la solution de silicate de métal alcalin d'alimentation pour former un mélange, lequel est placé dans le dispositif de nanofiltration. Deux ou plusieurs dispositifs ayant un seuil de rétention des molécules décroissant peuvent être utilisés en série pour obtenir une forme plus concentrée d'une solution de silicate purifiée. Lorsque deux dispositifs sont utilisés, le deuxième dispositif présente un seuil de rétention des molécules suffisant pour permettre aux molécules d'eau de passer mais en retenant la plupart des molécules résiduelles. Ce résultat peut être atteint avec un seuil de rétention des molécules d'environ 100 à 600 daltons ou, de préférence, d'environ 150 à 400 daltons.
États désignés : CA, CN, JP, MX.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)