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1. (WO1999051679) PROCEDE POUR MOUSSER LA SURFACE D'UNE COUCHE DE RESINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/1999/051679 N° de la demande internationale : PCT/JP1999/001672
Date de publication : 14.10.1999 Date de dépôt international : 31.03.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 28.04.1999
CIB :
C08J 7/02 (2006.01) ,H05K 3/38 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
7
Traitement chimique ou revêtement d'objets façonnés faits de substances macromoléculaires
02
par des solvants, p.ex. par des agents gonflants
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
38
Amélioration de l'adhérence entre le substrat isolant et le métal
Déposants : WAKIZAKA, Yasuhiro[JP/JP]; JP (UsOnly)
ITO, Ken-ichi[JP/JP]; JP (UsOnly)
KAITA, Shojiro[JP/JP]; JP (UsOnly)
NIPPON ZEON CO., LTD.[JP/JP]; 6-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8323, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : WAKIZAKA, Yasuhiro; JP
ITO, Ken-ichi; JP
KAITA, Shojiro; JP
Mandataire : WADA, Yasuro; Nippon Zeon Co., Ltd. 6-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8323, JP
Données relatives à la priorité :
10/10367831.03.1998JP
Titre (EN) METHOD OF ROUGHENING SURFACE OF RESIN LAYER
(FR) PROCEDE POUR MOUSSER LA SURFACE D'UNE COUCHE DE RESINE
Abrégé :
(EN) A method of roughening a resin layer surface, characterized by forming a resin layer from a resin composition which comprises a cyclic polymer and an organosilicon compound and is easily surface-roughened, and contacting a surface of the resin layer with a roughening fluid to remove the organosilicon compound from the surface.
(FR) On décrit un procédé pour mousser la surface d'une couche de résine. Le procédé consiste à former une couche de résine à partir d'une composition de résine contenant un polymère cyclique et un composé organosilicié, ladite couche de résine pouvant être facilement moussée en surface. Le procédé consiste ensuite à mettre une surface de la couche de résine au contact d'un liquide à mousser pour en éliminer le composé organosilicié.
États désignés : KR, US
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)