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1. (WO1999051356) AJUTAGE DE LIQUIDE, SYSTEME D'EMISSION D'ENERGIE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/051356    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/007414
Date de publication : 14.10.1999 Date de dépôt international : 02.04.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.11.1999    
CIB :
B05B 1/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ADVANCED ENERGY SYSTEMS, INC. [US/US]; 29 Airpark Road Princeton, NJ 08540 (US)
Inventeurs : HAAS, Edwin, G.; (US).
GUTOWSKI, Robert, M.; (US).
CALIA, Vincent, S.; (US)
Mandataire : CHIAVIELLO, Robert, M., Jr.; Baker & Botts, L.L.P. 2001 Ross Avenue Dallas, TX 75201-2980 (US)
Données relatives à la priorité :
09/054,831 03.04.1998 US
09/054,987 03.04.1998 US
Titre (EN) FLUID NOZZLE SYSTEM, ENERGY EMISSION SYSTEM FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND ITS METHOD OF MANUFACTURE
(FR) AJUTAGE DE LIQUIDE, SYSTEME D'EMISSION D'ENERGIE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)An emitted energy system for use in photolithography may include a fluid nozzle. A nozzle and its method of manufacture are provided. A nozzle (22) may include a nozzle cavity (110) disposed within a nozzle body (100) between an up-stream end (102) and a down-stream end (104). A nozzle passage (118) may be defined within the nozzle cavity (110) and extend a longitudinal length (120) from the down-stream end (104) of the nozzle body (100) into the nozzle cavity (110). A discharge orifice (124) may also be defined at the down-stream end (104) of the nozzle cavity (110) and have an associated width (126). The width (126) of the discharge orifice (124) may be substantially less than the longitudinal length (120) of the nozzle passage (118). The method of manufacture may include fabricating a recess (206) in a first side (202) of an article (200). An article passage (216) may be fabricated between a second side (204) of the article (200) and the recess (206). An insert (220) may be provided sized to fit the recess (206). An insert passage (230) may be fabricated in the insert (220). The insert (220) may then be secured in the recess (206), with the insert passage (230) and the article passage (216) aligned.
(FR)Système d'émission d'énergie conçu pour être mis en application en photolithographie et pouvant comporter un ajutage de liquide. L'invention concerne un ajutage et son procédé de fabrication. Cet ajutage (22) peut comprendre une cavité (110) située à l'intérieur d'un corps (100) d'ajutage entre une extrémité amont (102) et une extrémité aval (104). Un passage (118) peut être défini à l'intérieur de la cavité (110) et s'étendre sur une longueur (120) depuis l'extrémité aval (104) du corps (100) jusqu'à l'intérieur de la cavité (110). Un orifice de décharge (124) peut également être défini à l'extrémité aval (104) de la cavité (110) et posséder une largeur associée (126). Cette largeur (126) de l'orifice de décharge (124) peut être sensiblement inférieure à la longueur (120) du passage (118) de l'ajutage. Ce procédé de fabrication peut consister à créer un évidement (206) dans un premier côté (202) d'un article (200). On peut créer un passage (216) entre un deuxième côté (204) de l'article (200) et l'évidement (206). Une pièce insérée (220) peut être dimensionnée de façon à s'adapter à l'évidement (206). On peut créer un passage (230) dans la pièce insérée (220). On peut ensuite fixer cette dernière (220) dans l'évidement (206), le passage (230) de cette pièce insérée et le passage (216) de l'article étant alignés l'un par rapport à l'autre.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)