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1. (WO1999050878) PROCEDE POUR PRODUIRE UN FAISCEAU ELECTRONIQUE PULSE ET SOURCE DE PLASMA D'EXCITATION POUR METTRE EN OEUVRE LEDIT PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/050878    N° de la demande internationale :    PCT/EP1999/001742
Date de publication : 07.10.1999 Date de dépôt international : 17.03.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.07.1999    
CIB :
H01J 37/077 (2006.01)
Déposants : FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH [DE/DE]; Weberstrasse 5, D-76133 Karlsruhe (DE) (Tous Sauf US).
FREY, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FREY, Wolfgang; (DE)
Données relatives à la priorité :
198 13 589.0 27.03.1998 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINES GEPULSTEN ELEKTRONENSTRAHLS UND TRIGGERPLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS
(EN) METHOD FOR GENERATING A PULSED ELECTRON BEAM AND A TRIGGER PLASMA SOURCE FOR CARRYING OUT SAID METHOD
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE UN FAISCEAU ELECTRONIQUE PULSE ET SOURCE DE PLASMA D'EXCITATION POUR METTRE EN OEUVRE LEDIT PROCEDE
Abrégé : front page image
(DE)Durch das Verfahren und die Triggerplasmaquelle zur Durchführung desselben kann langzeitlich ein stets reproduzierbarer, stromstarker Elektronenstrahlimpuls erzeugt werden, der zur Ablation dünner Schichten auf einem exponierten Substrat hervorragend geeignet ist. In der Triggerplasmaquelle läuft eine gepulste Penning-Entladung ab. Zur Elektronenstrahlbildung wird keine Gleitentladung verwendet, sondern eine saubere Gasentladung, die den weiteren Prozeßablauf nicht durch Verunreinigungen nachteillig beeinflußt. Nach dem Anlegen des zur Zündung notwendigen Magnetfelds für die Penning-Entladung entwickeln sich die Potentiale an der Triggerplasmaquelle selbständig.
(EN)According to the invention, an electron beam impulse which has a high current intensity and which can always be reproduced can be generated for long durations by the method and by the trigger plasma source for carrying out said method. The electron beam impulse is extremely well-suited for the ablation of thin layers on an exposed substrate. A pulsed Penning discharge occurs in the trigger plasma source. Rather than using surface discharge to form the electron beam, a clean gas discharge is used which does not disadvantageously influence the proceeding process sequence due to impurities. The potentials independently develop on the trigger plasma source after applying the magnetic field for the Penning discharge, said magnetic field being required for triggering.
(FR)Le procédé selon l'invention et la source de plasma d'excitation pour mettre en oeuvre ledit procédé permettent de produire de façon durable une impulsion de faisceau électronique de forte intensité, reproductible, parfaitement adaptée à l'ablation de couches minces sur un substrat exposé. Une décharge de Penning pulsée se produit dans la source de plasma d'excitation. La formation du faisceau électronique ne s'effectue pas au moyen d'une décharge superficielle mais au moyen d'un décharge nette dans un gaz, qui n'influence pas la poursuite du processus de façon négative en raison d'impuretés. Après application du champ magnétique nécessaire à l'amorçage, pour la décharge de Penning, les potentiels se développent de façon spontanée au niveau de la source de plasma d'excitation.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)