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1. (WO1999050626) PERFECTIONNEMENTS PORTANT SUR DES SYSTEMES TRANSDUCTEURS D'ENERGIE RAYONNANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/050626    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/006367
Date de publication : 07.10.1999 Date de dépôt international : 24.03.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.10.1999    
CIB :
G01J 1/04 (2006.01)
Déposants : ADVANCED OPTICAL TECHNOLOGIES, LLC [US/US]; Suite 160 8301 Greensboro Drive McLean, VA 22102 (US)
Inventeurs : RAMER, David, P.; (US).
RAINS, Jack, C., Jr.; (US).
GREEN, Albert; (US).
PHILLIPS, E., Alan; (US).
REIM, John, F.; (US)
Mandataire : GEORGE, Keith, E.; McDermott, Will & Emery 600 13th Street N.W. Washington, DC 20005-3096 (US)
Données relatives à la priorité :
09/052,070 31.03.1998 US
Titre (EN) ENHANCEMENTS IN RADIANT ENERGY TRANSDUCER SYSTEMS
(FR) PERFECTIONNEMENTS PORTANT SUR DES SYSTEMES TRANSDUCTEURS D'ENERGIE RAYONNANTE
Abrégé : front page image
(EN)Constructive occlusion, alone or in combination with other techniques, enables tailoring of the illumination distribution or sensitivity profile of a radiant energy transducer system (60) for specific applications. Constructive occlusion utilizes a mask (24) sized and positioned to occlude an active optical area (LS), such as an aperture (22) of a diffusely reflective cavity (16), to provide a tailored performance characteristic. To further tailor the performance, a non-diffuse reflective shoulder (32) is used around a peripheral section of the mask and cavity.
(FR)L'invention concerne une technique d'occlusion constructive, utilisée seule ou en combinaison avec d'autres techniques, et permettant d'adapter la répartition de l'éclairage ou le profil de sensibilité d'un système transducteur (60) d'énergie rayonnante, dans des applications spécifiques. Dans cette technique d'occlusion constructive, on utilise un masque (24) dimensionné et placé pour obstruer une zone optique active (LS), telle qu'une ouverture (22) d'une cavité à réflexion diffuse (16), afin d'obtenir une caractéristique de performance adaptée. Afin d'adapter encore plus cette caractéristique, on utilise un épaulement à réflexion non diffuse (32) autour de la section périphérique du masque et de la cavité.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)