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1. (WO1999050338) POLYMERES SILICIES DE POLYAMMONIUM QUATERNAIRE HETEROCYCLIQUE ET LEUR UTILISATION DANS LES COMPOSITIONS COSMETIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/050338    N° de la demande internationale :    PCT/FR1999/000679
Date de publication : 07.10.1999 Date de dépôt international : 23.03.1999
CIB :
C08G 77/54 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14, rue Royale F-75008 Paris (FR) (Tous Sauf US).
RICHARD, Hervé [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
LAGRANGE, Alain [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : RICHARD, Hervé; (FR).
LAGRANGE, Alain; (FR)
Mandataire : DODIN, Catherine; L'Oréal - DPI 6, rue Bertrand Sincholle F-92583 Clichy Cedex (FR)
Données relatives à la priorité :
98/04059 01.04.1998 FR
Titre (EN) HETEROCYCLIC QUATERNARY POLYAMMONIUM SILICON POLYMERS AND THEIR USE IN COSMETIC COMPOSITIONS
(FR) POLYMERES SILICIES DE POLYAMMONIUM QUATERNAIRE HETEROCYCLIQUE ET LEUR UTILISATION DANS LES COMPOSITIONS COSMETIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns novel polymers comprising at least units of formula (I) wherein A1+ and A2+, identical or different, represent: a) a quaternary unsaturated heterocyclic compound; or b) a quaternary ammonium and at least one of groups A1+ and A2+ represents a quaternary unsaturated heterocycle; p represents an integer or decimal from 0 to 50; B1 represents an $g(a), $g(v) bis alkyl polysiloxane or a hydrocarbon chain, linear or branched, saturated or unsaturated comprising up to 6 consecutive carbon atoms, capable of comprising one or several hydroxyl groups and of being interrupted by one or several oxygen atoms and/or several aromatic cycles; B2 represents a hydrocarbon chain, linear or branched, saturated or unsaturated comprising up to 6 consecutive carbon atoms, capable of comprising one or several hydroxyl groups and of being interrupted by one or several oxygen atoms and/or several aromatic cycles; R1, R2, R3 and R4, identical or different, represent a C1-C6 alkyl radical or the phenyl radical. X$g(U) represents an anion derived from a mineral or organic acid. The invention also concerns the use of said polymers in cosmetics.
(FR)L'invention est relative à de nouveaux polymères comportant au moins des motifs de formule (I), dans laquelle: A1+ et A2+, identiques ou différents, désignent: a) un hétérocycle insaturé quaternaire; ou b) un ammonium quaternaire et au moins un des groupements A1+ et A2+ désigne un hétérocycle insaturé quaternaire; p désigne un nombre entier ou décimal de 0 à 50; B1 désigne un groupement $g(a), $g(v) bis alkyl polysiloxane ou une chaîne hydrocarbonée, linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée comportant jusqu'à 6 atomes de carbone consécutifs, pouvant comporter un ou plusieurs groupements hydroxyle et pouvant être interrompue par un ou plusieurs atomes d'oxygène et/ou plusieurs cycles aromatiques; B2 désigne une chaîne hydrocarbonée, linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée comportant jusqu'à 6 atomes de carbone consécutifs, pouvant comporter un ou plusieurs groupements hydroxyle et pouvant être interrompue par un ou plusieurs atomes d'oxygène et/ou plusieurs cycles aromatiques; R1, R2, R3 et R4, identiques ou différents désignent un radical alkyle en C1-C6 ou le radical phényle; X$g(U) désigne un anion dérivé d'un acide minéral ou organique; et à leur utilisation en cosmétique.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)