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1. (WO1999042502) COMPOSITIONS DE RESISTS POLYCYCLIQUES AVEC RESISTANCE ACCRUE A LA GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/042502    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/003632
Date de publication : 26.08.1999 Date de dépôt international : 19.02.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    01.09.1999    
CIB :
C08G 61/08 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : THE B.F. GOODRICH COMPANY [US/US]; 4 Coliseum Centre 2730 West Tyvola Road Charlotte, NC 28217-4578 (US).
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, NY 10504 (US)
Inventeurs : JAYARAMAN, Saikumar; (US).
GOODALL, Brian, L.; (US).
RHODES, Larry, F.; (US).
SHICK, Robert, A..; (US).
VICARI, Richard; (US).
ALLEN, Robert, D.; (US).
OPITZ, Juliann; (US).
SOORIYAKUMARAN, Ratnam; (US).
WALLOW, Thomas; (US)
Mandataire : DUNLAP, Thoburn, T.; The B.F. Goodrich Company 9921 Brecksville Road Brecksville, OH 44141-3289 (US).
VON KREISLER, Alek; Deichmannhaus am Hauptbahnhof D-50667 Köln (DE)
Données relatives à la priorité :
60/075,557 23.02.1998 US
Titre (EN) POLYCYCLIC RESIST COMPOSITIONS WITH INCREASED ETCH RESISTANCE
(FR) COMPOSITIONS DE RESISTS POLYCYCLIQUES AVEC RESISTANCE ACCRUE A LA GRAVURE
Abrégé : front page image
(EN)Polycyclic polymers containing pendant aromatic moieties are disclosed. The polymers exhibit light transparency properties to deep UV wave lengths making them useful for high resolution photolithographic applications. These polymers are particularly useful in chemically amplified positive and negative tone resists.
(FR)L'invention concerne des polymères polycycliques contenant des fractions aromatiques pendantes. Ces polymères présentent des propriétés de transparence à la lumière à des longueurs d'onde en U.V profondes, ce qui les rend utiles dans des applications photolithographiques à haute résolution. Ces polymères sont particulièrement utilisés dans des résists négatifs et positifs chimiquement amplifiés.
États désignés : AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CN, CZ, EE, GE, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, RO, RU, SD, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)