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1. (WO1999041481) PROFILE D'ECARTEMENT POUR UNITE DE PLAQUES ISOLANTES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/041481    N° de la demande internationale :    PCT/DE1999/000188
Date de publication : 19.08.1999 Date de dépôt international : 21.01.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.08.1999    
CIB :
E06B 3/663 (2006.01), E06B 3/673 (2006.01)
Déposants : TECHNOFORM CAPRANO + BRUNNHOFER OHG [DE/DE]; Ostring 4, D-34277 Fuldabrück (DE) (Tous Sauf US).
BRUNNHOFER, Erwin [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BRUNNHOFER, Erwin; (DE)
Mandataire : MASCH, Karl, Gerhard; Andrejewski, Honke & Sozien, Theaterplatz 3, D-45127 Essen (DE)
Données relatives à la priorité :
198 05 348.7 11.02.1998 DE
Titre (DE) ABSTANDHALTERPROFIL FÜR ISOLIERSCHEIBENEINHEIT
(EN) PROFILED SPACER FOR AN INSULATION-PLATE UNIT
(FR) PROFILE D'ECARTEMENT POUR UNITE DE PLAQUES ISOLANTES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Abstandhalterprofil aus einem elastisch-plastisch verformbaren, schlecht wärmeleitenden Material für einen Abstandhalterrahmen, der im Randbereich von mindestens zwei voneinander beabstandeten Scheiben (100) unter Bildung eines Scheibenzwischenraumes (110) anzubringen ist, wobei das Abstandhalterprofil eine Kammer umfaßt, die in einer ihrer Wände mindestens ein sich längs zur Kammer erstreckendes plastisch verformbares Verstärkungselement aufweist, und wobei das Abstandhalterprofil eine sich im wesentlichen über seine gesamte Breite und Länge erstreckende diffusionsdichte Schicht aufweist. Um das Profil kaltbiegbar zu machen, sind die Seitenwände (20, 26) der Kammer (10) jeweils mit mindestens einem Verstärkungselement (30, 40, 50, 55) versehen.
(EN)The present invention relates to a profiled spacer made of a material with a low thermal conductivity and capable of elastic-plastic deformation, wherein said spacer is intended for use in a spacing frame and is mounted in the edge region of at least two plates (100) spaced apart from each other in order to form an intermediate gap (110) between said plates. The profiled spacer comprises a chamber having a plastic-deformation reinforcement member in one of its walls, wherein said member extends longitudinally relative to said chamber. The profiled spacer includes a diffusion-proof layer extending substantially on its entire width and on its entire length. In order to provide a profiled spacer capable of cold flexion, the side walls (20, 26) of the chamber (10) are each provided with at least one reinforcement member (30, 40, 50, 55).
(FR)L'invention concerne un profilé d'écartement réalisé dans un matériau à conduction thermique réduite et à déformation élastico-plastique, prévu pour un cadre d'écartement, à monter dans la zone marginale d'au moins deux plaques (100) à distance l'une de l'autre, de manière à former un espace (110) intermédiaire entre elles. Le profilé d'écartement comprend une chambre qui présente dans une de ses parois, un élément de renforcement à déformation plastique, qui s'étend longitudinalement par rapport à ladite chambre. Le profilé d'écartement comporte une couche étanche à la diffusion qui s'étend sensiblement sur toute sa largeur et sur toute sa longueur. Afin que le profilé soit pliable à froid, les parois (20, 26) latérales de la chambre (10) sont munies chacune d'au moins un élément (30, 40, 50, 55) de renforcement.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)