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1. (WO1999041039) EFFECTEUR AMELIORE POUR CONDITIONNEMENT DE TAMPONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/041039    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/002741
Date de publication : 19.08.1999 Date de dépôt international : 08.02.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.08.1999    
CIB :
B24B 53/007 (2006.01), B24B 53/017 (2012.01), B24D 11/00 (2006.01), B24D 3/28 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : BIRANG, Manoocher; (US).
PRINCE, John; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
60/074,292 11.02.1998 US
09/241,910 02.02.1999 US
Titre (EN) IMPROVED END EFFECTOR FOR PAD CONDITIONING
(FR) EFFECTEUR AMELIORE POUR CONDITIONNEMENT DE TAMPONS
Abrégé : front page image
(EN)An end effector (11a, 11b) is provided for conditioning pads used to polish semiconductor wafers. The end effector (11a, 11b) has a substrate (13) with a matrix (15) (preferably a polymer) disposed thereon. Abrasive particles such as diamond crystals (17a, b, c) are embedded in the matrix (15). Preferred particle size and number/spacing is provided for optimal conditioning. The particles are embedded by at least a predetermined amount (e.g., 75 %) so as to provide uniform/repeatable conditioning while avoiding dislodged particles. The particles may be embedded such that the tips thereof are coplanar, or such that the profile of diamond tips form a plurality of curved regions. A method for checking end effector (11a, 11b) quality is also provided.
(FR)L'invention concerne un effecteur (11a, 11b) permettant de conditionner les tampons utilisés pour polir les plaquettes à semi-conducteur. L'effecteur (11a, 11b) comprend un substrat (13) recouvert par une matrice (15) (de préférence un polymère). Des particules abrasives, telles que des cristaux de diamant (170a,b,c), sont noyées dans la matrice (15). La taille et le nombre/l'espacement des particules préférés pour un conditionnement optimal sont indiqués. On noie au moins une quantité prédéterminée de particules (par exemple 75%), ce qui permet d'obtenir un conditionnement uniforme/reproductible, tout en évitant que certaines particules se détachent. Les particules peuvent être noyées de façon que leurs pointes soient coplanaires ou bien que le profil des pointes forme une pluralité de zones courbes. L'invention concerne également un procédé permettant de vérifier la qualité des effecteurs (11a, 11b).
États désignés : JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)