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1. (WO1999040892) COMPOSITION COSMETIQUE A BASE DE POLYURETHANNES ASSOCIATIFS ET DE SILICONES QUATERNAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/040892    N° de la demande internationale :    PCT/FR1998/002865
Date de publication : 19.08.1999 Date de dépôt international : 23.12.1998
CIB :
A61K 8/87 (2006.01), A61K 8/895 (2006.01), A61K 8/896 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14, rue Royale F-75008 Paris (FR) (Tous Sauf US).
DUPUIS, Christine [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : DUPUIS, Christine; (FR)
Mandataire : MISZPUTEN, Laurent; L'Oréal / D.P.I. 6, rue Bertrand Sincholle F-92585 Clichy Cedex (FR)
Données relatives à la priorité :
98/01776 13.02.1998 FR
Titre (EN) COSMETIC COMPOSITION BASED ON ASSOCIATIVE POLYURETHANES AND QUATERNARY SILICONES
(FR) COMPOSITION COSMETIQUE A BASE DE POLYURETHANNES ASSOCIATIFS ET DE SILICONES QUATERNAIRES
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns cosmetic compositions containing in a cosmetically acceptable support, as thickening system: (A) at least an associative polyurethane; and (B) at least a silicone with quaternary ammonium groups.
(FR)La présente invention concerne des compositions cosmétiques contenant dans un support cosmétiquement acceptable, en tant que système épaississant: a) au moins un polyuréthanne associatif non ionique et; b) au moins une silicone à groupements ammonium quaternaire.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)