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1. (WO1999040472) PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEVIATION D'UN FAISCEAU LASER

Pub. No.:    WO/1999/040472    International Application No.:    PCT/DE1999/000235
Publication Date: 12 août 1999 International Filing Date: 29 janv. 1999
IPC: B23K 26/08
G02B 26/08
Applicants: LPKF LASER & ELECTRONICS AG
KNAPPMEYER, Joachim
Inventors: KNAPPMEYER, Joachim
Title: PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEVIATION D'UN FAISCEAU LASER
Abstract:
L'invention concerne un procédé de déviation d'un faisceau laser autour de la circonférence d'une figure de vecteur polaire, notamment à des fins de trépanation. Le procédé est caractérisé en ce que le centre d'une optique focalisatrice destinée à un faisceau laser est déplacé sur une trajectoire par rapport au faisceau laser incident, la trajectoire étant obtenue par addition de deux vecteurs en rotation. Ce procédé permet de découper ou de traiter avec précision et rapidement de petites structures, par exemple, en fines feuilles métalliques. L'invention concerne également un dispositif permettant d'exécuter le procédé. Ce dispositif est caractérisé en ce qu'une deuxième unité pivotante (3) est fixée de façon excentrée sur une première unité pivotante (2). Une optique focalisatrice (5), à son tour, est fixée de façon excentrée sur la deuxième unité pivotante (3), la première unité pivotante (2) étant entraînée en rotation par un premier mécanisme (6) et la deuxième unité (3) par un deuxième mécanisme (7).