WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1999038040) MASQUE DE PHASE DESTINE A LA FABRICATION D'UN RESEAU DE DIFFRACTION ET PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/1999/038040 N° de la demande internationale : PCT/JP1999/000174
Date de publication : 29.07.1999 Date de dépôt international : 20.01.1999
CIB :
G02B 5/18 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : KURIHARA, Masaaki[JP/JP]; JP (UsOnly)
SEGAWA, Toshikazu[JP/JP]; JP (UsOnly)
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.[JP/JP]; 1-1, Ichigaya-Kagacho 1-chome Shinjuku-ku Tokyo 162-0062, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : KURIHARA, Masaaki; JP
SEGAWA, Toshikazu; JP
Mandataire : NIRASAWA, Hiroshi ; Azusa Patent Office Ueno Suzuki Building, 7th floor 16-3, Ueno 3-chome Taito-ku Tokyo 110-0005, JP
Données relatives à la priorité :
10/1036522.01.1998JP
10/2426605.02.1998JP
Titre (EN) PHASE MASK FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING, AND METHOD OF MANUFACTURE
(FR) MASQUE DE PHASE DESTINE A LA FABRICATION D'UN RESEAU DE DIFFRACTION ET PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN) A phase mask for use in making a diffraction grating, which is not likely to cause defects on diffraction gratings even if it carries dust or plastic particles sublimated from optical fibers. The phase mask (21) includes alternating cross patterns of grooves (26) and ridges (27) formed on one side of a transparent plate to produce a diffraction grating according to interference fringes produced by rays diffracted from the patterns. The surface of the side having the alternating patterns of grooves (26) and ridges (27) is coated with an optically transparent protective layer (30).
(FR) L'invention concerne un masque de phase destiné à s'utiliser dans la fabrication d'un réseau de diffraction, le masque de phase n'étant pas susceptible de provoquer des défauts sur les réseaux de diffraction même lorsqu'il transporte de la poussière ou des particules de plastique sublimées à partir de fibres optiques. Le masque de phase (21) comprend des motifs croisés alternés de creux (26) et d'arêtes (27) formés d'un côté d'une plaque transparente pour produire un réseau de diffraction en fonction des lignes d'interférence produites par des rayons diffractés à partir des motifs. La surface du côté présentant les motifs en alternance de creux (26) et d'arêtes (27) est revêtue d'une couche de protection (30) à transparence optique.
États désignés : CA, US
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)