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1. (WO1999036950) SYSTEME D'EXPOSITION, APPAREIL D'EXPOSITION, ET DISPOSITIF REVELATEUR DU REVETEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/036950    N° de la demande internationale :    PCT/JP1999/000142
Date de publication : 22.07.1999 Date de dépôt international : 19.01.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.08.1999    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
TOKUDA, Noriaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAGIWARA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOKUDA, Noriaki; (JP).
HAGIWARA, Shigeru; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; OR Building 23-3, Takadanobaba 3-chome Shinjuku-ku Tokyo 169-8925 (JP)
Données relatives à la priorité :
10/7128 19.01.1998 JP
Titre (EN) EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND COATING DEVELOPING EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTEME D'EXPOSITION, APPAREIL D'EXPOSITION, ET DISPOSITIF REVELATEUR DU REVETEMENT
Abrégé : front page image
(EN)An exposure system characterized in that the system comprises a first unit having a first device for transferring the image of a pattern of a mask onto a wafer, a second unit having a second device having a function different from that of the first device, and a connection unit connecting the first unit to the second unit, and that the inner pressure of a connection section is lower than those of the first and second units and higher than the ambient pressure of the connection unit.
(FR)L'invention concerne un système d'exposition. Ce système se caractérise en ce qu'il comprend une première unité équipée d'un premier dispositif pour transférer l'image d'un motif d'un masque sur une tranche de silicium, une deuxième unité pourvue d'un deuxième dispositif dont la fonction est différente du premier dispositif, et une unité de connexion connectant la première unité à la deuxième unité. La pression intérieure d'une section de connexion est inférieure à celle des première et deuxième unités et supérieure à la pression ambiante de l'unité de connexion.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)