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1. (WO1999035671) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR SECHER DES SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/035671    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/004296
Date de publication : 15.07.1999 Date de dépôt international : 10.07.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.03.1999    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : STEAG MICROTECH GMBH [DE/DE]; Carl-Benz-Strasse 10, D-72124 Pliezhausen (DE)
Inventeurs : WOLKE, Klaus; (DE).
WEBER, Martin; (DE)
Données relatives à la priorité :
198 00 584.9 09.01.1998 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM TROCKNEN VON SUBSTRATEN
(EN) METHOD AND DEVICE FOR DRYING SUBSTRATES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR SECHER DES SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(DE)Bei einem Verfahren zum Trocknen von Substraten (1), bei deren Ausbringen aus einer Flüssigkeit (2) ein sich am Übergang zwischen der Substratoberfläche und der Flüssigkeit ausbildender Meniskus (6) der Flüssigkeit (2) erhitzt wird, ist es hinsichtlich des Verfahrens- und Vorrichtungsaufwands und hinsichtlich einer guten, sicheren und schnellen Trocknung sehr vorteilhaft, wenn der Meniskus durch ein gasförmiges Medium (7) erhitzt wird. Die selben oder ähnliche Vorteile ergeben sich auch bei einer Erwärmung des Meniskus (6) durch das mit ihm in Berührung stehende Substrat (1).
(EN)The invention relates to a method and a device for drying substrates (1). As said substrates are brought out of a liquid (2), a meniscus (6) of said liquid (2) forms between the surface of the substrate and the liquid, and is heated. According to the invention, the meniscus is heated using a gaseous medium (7). This has the advantage of both reducing the cost of the method and the device and drying the substrate effectively, reliably and quickly. Alternatively, the meniscus (6) can be heated using the substrate (1) with which it is in contact. This has the same or similar advantages.
(FR)L'invention concerne un procédé pour sécher des substrats (1), selon lequel au moment où elles sont extraites d'un liquide (2), un ménisque (6) dudit liquide (2), qui se forme à l'interface entre la surface du substrat et le liquide, est chauffé. En termes de complexité du procédé et du dispositif, ainsi qu'en vue d'un séchage efficace, fiable et rapide, il est très avantageux que le ménisque soit chauffé par un milieu gazeux (7). On parvient également à des avantages identiques ou similaires, lorsque le ménisque (6) est chauffé par le substrat (1) qui est à son contact.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)