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1. (WO1999035667) TRAITEMENT AU PLASMA DESTINE A FABRIQUER DES EMETTEURS D'ELECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/035667    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/000082
Date de publication : 15.07.1999 Date de dépôt international : 05.01.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.07.1999    
CIB :
C23F 4/00 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US) (Tous Sauf US).
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 21st floor, 300 Lakeside Drive, Oakland, CA 94612-3550 (US) (Tous Sauf US).
COATES, Don, Mayo [US/US]; (US) (US Seulement).
WALTER, Keven, Carl [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : COATES, Don, Mayo; (US).
WALTER, Keven, Carl; (US)
Mandataire : SCHAFFER, Andrew, L.; E.I. du Pont de Nemours and Company, Legal Patent Records Center, 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US)
Données relatives à la priorité :
60/071,055 09.01.1998 US
Titre (EN) PLASMA TREATMENT FOR PRODUCING ELECTRON EMITTERS
(FR) TRAITEMENT AU PLASMA DESTINE A FABRIQUER DES EMETTEURS D'ELECTRONS
Abrégé : front page image
(EN)Plasma treatment for producing carbonaceous field emission electron emitters is disclosed. A plasma of ions is generated in a closed chamber and used to surround the exposed surface of a carbonaceous material. A voltage is applied to an electrode that is in contact with the carbonaceous material. This voltage has a negative potential relative to a second electrode in the chamber and serves to accelerate the ions toward the carbonaceous material and provide an ion energy sufficient to etch the exposed surface of the carbonaceous material but not sufficient to result in the implantation of the ions within the carbonaceous material. Preferably, the ions used are those of an inert gas or an inert gas with a small amount of added nitrogen.
(FR)L'invention concerne le traitement au plasma destiné à fabriquer des émetteurs carbonés d'électrons à effet de champ. On génère dans une chambre fermée un plasma d'ions que l'on utilise pour envelopper la surface exposée d'un matériau carboné. On applique ensuite une tension à une électrode qui est en contact avec ledit matériau carboné. Cette tension possède un potentiel négatif par rapport à une deuxième électrode dans la chambre et sert à accélérer les ions dans leur course vers le matériau carboné ainsi qu'à fournir une énergie d'ions suffisante pour mordre la surface exposée du matériau carboné mais insuffisante pour causer l'implantation des ions dans le matériau carboné. De préférence, les ions utilisés sont ceux d'un gaz inerte auquel on a ajouté une petite quantité d'azote.
États désignés : CN, JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)