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1. (WO1999035535) DEVELOPPATEUR LINEAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/035535    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/000494
Date de publication : 15.07.1999 Date de dépôt international : 08.01.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.08.1999    
CIB :
G03D 5/04 (2006.01)
Déposants : FASTAR, LTD. [US/US]; 10480 Markison Road Dallas, TX 75238 (US)
Inventeurs : SNODGRASS, Ocie, T.; (US).
GIBSON, Gregory, M.; (US).
NEWQUIST, Carl, W.; (US)
Mandataire : TANNENBAUM, David, H.; Fulbright & Jaworski L.L.P. Suite 2800 2200 Ross Avenue Dallas, TX 75201 (US)
Données relatives à la priorité :
60/070,971 09.01.1998 US
Titre (EN) LINEAR DEVELOPER
(FR) DEVELOPPATEUR LINEAIRE
Abrégé : front page image
(EN)The inventive dispenser mechanism uniformly develops a photosensitive layer on a substrate. The mechanism uses a developer head that moves in a substantially linear relative motion with respect to the substrate and dispenses a developer at a controlled rate. Contact of the developer material with the photosensitive layer commences a chemical reaction of developing. The mechanism also uses a rinse head that has the same motion as the developer head and travels at the same velocity. The rinse head dispenses a rinse material at a controlled rate. Contact of the rinse material with the developer material on the photosensitive layer retards the chemical reaction of developing. The rinse head waits for a predetermined dwell period after the developer head has dispensed the developer material before dispensing the rinse material. The mechanism may also use a suction head that has the same motion and velocity and removes loose material on a surface of the substrate.
(FR)L'invention concerne un mécanisme distributeur permettant de développer uniformément une couche photosensible sur un substrat. Ce mécanisme utilise une tête de développement qui se déplace de manière sensiblement linéaire par rapport audit substrat, et distribue un développateur selon un débit régulé, le contact de cette substance de développement avec la couche photosensible provoquant une réaction chimique de développement. Le mécanisme de la présente invention utilise également une tête de rinçage qui se déplace de la même manière et à la même vitesse que la tête de développateur. Cette tête de rinçage distribue une substance de rinçage selon un débit régulé, le contact de cette substance de rinçage avec la substance de développement sur ladite couche photosensible retardant la réaction chimique de développement. Avant de distribuer la substance de rinçage, la tête de rinçage attend pendant un temps de séjour prédéterminé que ladite tête de développement ait distribué la substance de développement. Le mécanisme de cette invention peut également utiliser une tête d'aspiration qui se déplace de la même manière et à la même vitesse, et permet d'éliminer les résidus de la surface dudit substrat.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)