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1. (WO1999034921) SYSTEME D'APPLICATEUR ET PROCEDE D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/034921    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/000614
Date de publication : 15.07.1999 Date de dépôt international : 12.01.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.08.1999    
CIB :
B01L 3/14 (2006.01), G01N 35/00 (2006.01), G01N 35/04 (2006.01), G01N 35/10 (2006.01)
Déposants : THE GOVERNMENT OF THE UNITED STATES OF AMERICA as represented by THE SECRETARY, DEPARTMENT OF HEALTH AND HUMAN SERVICES [US/US]; Suite 325 6011 Executive Boulevard Rockville, MD 20852 (US)
Inventeurs : LENARDO, Michael, J.; (US).
FISHER, Galen; (US)
Mandataire : DAIGNAULT, Ronald, A.; Merchant & Gould, P.C. 3100 Norwest Center 90 South Seventh Street Minneapolis, MN 55402-4131 (US)
Données relatives à la priorité :
09/005,475 12.01.1998 US
Titre (EN) APPLICATOR SYSTEM AND METHOD FOR DISPENSING LIQUIDS
(FR) SYSTEME D'APPLICATEUR ET PROCEDE D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an applicator system including an applicator, an applicator tube, an applicator tube system, and a cap system.
(FR)Cette invention se rapporte à un système d'applicateur comprenant un applicateur, un tube d'applicateur, un système de tube d'applicateur et un système de capuchon.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)