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1. (WO1999034440) ANNEAU DE GARDE PLANAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/034440    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/025467
Date de publication : 08.07.1999 Date de dépôt international : 01.12.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.07.1999    
CIB :
H01L 23/522 (2006.01), H01L 23/58 (2006.01)
Déposants : INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, CA 95052 (US) (Tous Sauf US).
SESHAN, Krishna [US/US]; (US) (US Seulement).
MIELKE, Neal, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SESHAN, Krishna; (US).
MIELKE, Neal, R.; (US)
Mandataire : TAYLOR, Edwin, H.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/001,397 31.12.1997 US
Titre (EN) PLANAR GUARD RING
(FR) ANNEAU DE GARDE PLANAIRE
Abrégé : front page image
(EN)An integrated circuit (500) is provided. The integrated circuit includes a substrate and at least one dielectric layer and a metal layer formed on the substrate. The at least one dielectric layer includes a terminal dielectric layer (508). The integrated circuit further includes a planar passivating layer (506) formed upon the terminal dielectric layer.
(FR)L'invention concerne un circuit (500) intégré. Ce circuit intégré comprend un substrat et au moins une couche diélectrique et une couche de métal formées sur le substrat. Cette ou ces couche(s) diélectrique(s) comprennent une couche (508) diélectrique de connexion. Le circuit intégré comprend en outre une couche (506) de passivation planaire formée sur la couche diélectrique de connexion.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)