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1. (WO1999034427) COMPOSES DE GRAVURE HYDROFLUOROCARBONES A EFFET DE SERRE REDUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/034427    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/027426
Date de publication : 08.07.1999 Date de dépôt international : 23.12.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.07.1999    
CIB :
H01L 21/311 (2006.01)
Déposants : ALLIEDSIGNAL INC. [US/US]; 101 Columbia Road P.O. Box 2245 Morristown, NJ 07962-2245 (US)
Inventeurs : DEMMIN, Timothy, R.; (US).
LULY, Matthew, H.; (US).
FATHIMULLA, Mohammed, A.; (US)
Mandataire : CRISS, Roger, H.; AlliedSignal Inc., Law Dept. (C.A. McNally) 101 Columbia Road P.O Box 2245 Morristown, NJ 07962-2245 (US)
Données relatives à la priorité :
09/001,755 31.12.1997 US
Titre (EN) HYDROFLUOROCARBON ETCHING COMPOUNDS WITH REDUCED GLOBAL WARMING IMPACT
(FR) COMPOSES DE GRAVURE HYDROFLUOROCARBONES A EFFET DE SERRE REDUIT
Abrégé : front page image
(EN)A method of etching comprising subjecting a material under plasma etching conditions to an etching composition comprising at least an etchant compound having the formula: CxHyFz wherein: x = 3, 4 or 5; 2x$m(G)z$m(G)y; and y+z=2x+2; and further including an etching composition which includes said etchant compound and a second material different from the etchant compound that enhances or modifies plasma etching.
(FR)Procédé de gravure qui consiste à soumettre une matière, dans des conditions de gravure au plasma, à une composition de gravure contenant au moins un composé de gravure de formule CxHyFz dans laquelle x est égal à 3, 4 ou 5, 2x$m(G)z$m(G)y, et y+z=2x+2. Ladite composition de gravure contient ledit composé de gravure ainsi d'une seconde matière, différente du composé de gravure, qui améliore ou modifie la gravure au plasma.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)