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1. WO1999003787 - PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE PRODUIRE DES VAPEURS DE CHARGE D'ALIMENTATION DE FAIBLE DEBIT

Numéro de publication WO/1999/003787
Date de publication 28.01.1999
N° de la demande internationale PCT/US1998/014018
Date du dépôt international 07.07.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 23.11.1998
CIB
B01J 4/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
4Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
B01J 19/26 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
26Réacteurs du type à injecteur, c. à d. dans lesquels la distribution des réactifs de départ dans le réacteur est effectuée par introduction ou injection au moyen d'injecteurs
C03B 19/14 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
BFABRICATION OU FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES;  TRAITEMENTS ADDITIONNELS DANS LA FABRICATION OU LE FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
19Autres méthodes de façonnage du verre
14par des procédés à réaction en phase gazeuse
CPC
B01J 19/26
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
19Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
26Nozzle-type reactors, i.e. the distribution of the initial reactants within the reactor is effected by their introduction or injection through nozzles
B01J 2208/00504
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
2208Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
00008Controlling the process
00017Controlling the temperature
00504by means of a burner
B01J 2208/00548
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
2208Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
00008Controlling the process
00548Flow
B01J 4/001
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
4Feed ; or outlet; devices; Feed or outlet control devices
001Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
C03B 19/1415
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
19Other methods of shaping glass
14by gas- ; or vapour-; phase reaction processes
1415Reactant delivery systems
C03B 2207/85
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2207Glass deposition burners
80Feeding the burner or the burner-heated deposition site
85with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
Déposants
  • CORNING INCORPORATED [US]/[US] (AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GE, GH, GR, HU, ID, IE, IL, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MC, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW)
  • McDERMOTT, Mark, A. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • McDERMOTT, Mark, A.
Mandataires
  • HERZFELD, Alexander, R.
Données relatives à la priorité
60/053,31521.07.1997US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS AND APPARATUS FOR PRODUCING LOW FLOW RATES OF FEEDSTOCK VAPORS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE PRODUIRE DES VAPEURS DE CHARGE D'ALIMENTATION DE FAIBLE DEBIT
Abrégé
(EN)
A method and apparatus for producing feedstock vapors utilized in the manufacturing of silica glass is provided. The apparatus includes a means for providing a constant flow of a liquid feedstock (22), a means providing an injector gas (24), a mixer (28), an injector tube (30) having an injector entrance (34) and injector orifice (36), a means for flowing a carrier gas (26), a vaporizer chamber (32) and a vapor feedstock delivery conduit (38) which delivers feedstock vapors to a conversion site where it is converted to a silica glass. The invention produces beneficial low flow rates of feedstock vapors, particularly suited for use in the manufacture of planar optical waveguides and lightwave optical circuits.
(FR)
L'invention concerne un procédé et un appareil permettant de produire des vapeurs de charge d'alimentation utilisées dans la production de verre de silice. L'appareil comprend un moyen destiné à produire un flux constant d'une charge d'alimentation liquide (22), un moyen produisant un gaz injecteur (24), un mélangeur (28), un tube injecteur (30) doté d'une entrée (34) et d'un orifice injecteur (36), un moyen destiné à l'écoulement d'un gaz porteur (26), une chambre de vaporisation (32) et un conduit (38) destiné à délivrer des vapeurs de charge d'alimentation à un site de conversion qui les transforme en verre de silice. L'invention permet d'obtenir des vapeurs de charge d'alimentation de faibles débits utiles, convenant particulièrement à l'utilisation dans la production de guides d'ondes optiques planaires et des circuits optiques à ondes lumineuses.
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