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1. (WO1998053510) SILHOUETTAGE DE DISPOSITIFS ELECTROLUMINESCENTS ORGANIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/053510    N° de la demande internationale :    PCT/GB1998/001265
Date de publication : 26.11.1998 Date de dépôt international : 30.04.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.12.1998    
CIB :
H01L 21/3213 (2006.01), H01L 51/40 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01)
Déposants : CAMBRIDGE DISPLAY TECHNOLOGY LTD. [GB/GB]; 181A Huntingdon Road, Cambridge CB3 0DJ (GB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, LU, MC, NL, PT, SE only).
PICHLER, Karl [AT/US]; (US) (US Seulement).
BRIGHT, Christopher [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : PICHLER, Karl; (US).
BRIGHT, Christopher; (GB)
Mandataire : SLINGSBY, Philip, Roy; Page White & Farrer, 54 Doughty Street, London WC1N 2LS (GB)
Données relatives à la priorité :
9710344.4 21.05.1997 GB
Titre (EN) PATTERNING ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICES
(FR) SILHOUETTAGE DE DISPOSITIFS ELECTROLUMINESCENTS ORGANIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A method for patterning an organic light-emitting device having an organic light-emitting layer underlying an electrode layer, the method comprising: a first patterning step, in which the electrode layer is patterned by exposure to a laser beam so as to remove part of the depth of the electrode layer in the areas patterned by the laser beam; and a second patterning step in which the remaining depth of the electrode layer is removed in the areas patterned during the first step, the second patterning step being of a type to which the organic layer is less sensitive than that of the first patterning step.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant le silhouettage d'un dispositif électroluminescent dont une couche électroluminescente est recouverte par une couche électrode. Ce procédé se décompose en deux opérations. La première opération consiste à silhouetter la couche électrode en l'exposant à un faisceau laser de façon à supprimer une partie de la profondeur de la couche électrode dans les zones de silhouettage sous l'effet du faisceau laser. La seconde opération consiste à retirer la profondeur restante de la couche électrode dans les zones silhouettées pendant la première opération, la seconde opération de silhouettage étant d'un type pour lequel la couche organique est moins sensible que le type de la première opération de silhouettage.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)