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1. (WO1998053482) APPAREIL PERMETTANT LE COUPLAGE DE PUISSANCE A TRAVERS UNE PIECE DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE PLAQUETTES A SEMI-CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/053482    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/010770
Date de publication : 26.11.1998 Date de dépôt international : 21.05.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.12.1998    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : VAN GOGH, James; (US)
Mandataire : MOSER, Raymond, R., Jr.; Applied Materials, Inc., P.O. Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Données relatives à la priorité :
08/862,272 23.05.1997 US
Titre (EN) APPARATUS FOR COUPLING POWER THROUGH A WORKPIECE IN A SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM
(FR) APPAREIL PERMETTANT LE COUPLAGE DE PUISSANCE A TRAVERS UNE PIECE DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE PLAQUETTES A SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus for supporting a wafer in a semiconductor wafer processing system. The apparatus contains a pedestal assembly, a ring assembly circumscribing the pedestal and an insulator between the pedestal assembly and ring assembly. The insulator electrically isolates the pedestal assembly from the ring assembly thereby preventing unwanted power coupling through the ring assembly.
(FR)La présente invention concerne un appareil destiné à supporter une plaquette dans un système de traitement de plaquettes à semi-conducteur. L'appareil contient un ensemble socle, un ensemble anneau entourant le socle et un isolant entre l'ensemble socle et l'ensemble anneau. L'isolant isole électriquement l'ensemble socle de l'ensemble anneau et empêche de la sorte tout couplage de puissance non désiré à travers l'ensemble anneau.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)