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1. (WO1998052213) COUVERCLE DE REFLECTEUR POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/052213    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/009760
Date de publication : 19.11.1998 Date de dépôt international : 12.05.1998
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : BIERMAN, Benjamin; (US).
BALLANCE, David, S.; (US).
TIETZ, James, V.; (US).
HAAS, Brian; (US).
WILLIAMS, Meredith, J.; (US).
DEATON, Paul; (US)
Mandataire : APPLIED MATERIALS, INC.; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052 (US)
Données relatives à la priorité :
08/858,089 16.05.1997 US
Titre (EN) REFLECTOR COVER FOR A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
(FR) COUVERCLE DE REFLECTEUR POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)In one embodiment, the invention is directed to an apparatus for preventing depositions from occurring on a reflector in a processing chamber, comprising: a cover disposed adjacent to the reflector, the cover optically transparent over a range of wavelengths in which the reflector is reflective; and at least one cover support for maintaining the position of the cover relative to the reflector.
(FR)L'invention concerne dans un mode de réalisation, un appareil de prévention de dépôts sur un réflecteur dans une chambre de traitement, l'appareil comprenant: un couvercle disposé de manière contiguë au réflecteur, le couvercle étant transparent sur le plan optique dans une gamme de longueurs d'ondes dans lesquelles le réflecteur est réfléchissant; et au moins un support de couvercle permettant de maintenir la position du couvercle par rapport au réflecteur.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)