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1. (WO1998052207) CONFIGURATION D'ENROULEMENT CENTRAL POUR DEPOT EN PHASE VAPEUR ACTIVE PAR PLASMA DE METAL IONISE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/052207    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/010058
Date de publication : 19.11.1998 Date de dépôt international : 13.05.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.12.1998    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : HONG, Liubo; (US).
WANG, Hougong; (US).
YAO, Gongda; (US).
XU, Zheng; (US)
Mandataire : VERPLANCKEN, Donald; Applied Materials, Inc., P.O. Box 450-A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Données relatives à la priorité :
08/857,719 16.05.1997 US
Titre (EN) CENTRAL COIL DESIGN FOR IONIZED METAL PLASMA DEPOSITION
(FR) CONFIGURATION D'ENROULEMENT CENTRAL POUR DEPOT EN PHASE VAPEUR ACTIVE PAR PLASMA DE METAL IONISE
Abrégé : front page image
(EN)In a plasma generating apparatus, a coil is positioned between a target and a workpiece to inductively couple RF energy into a plasma so that the paths of a portion of the ionized deposition material are deflected from the center of the workpiece and toward the edges of the workpiece. As a consequence, it has been found that the uniformity of deposition may be improved. In the illustrated embodiment, the coil is a multi-turn coil formed in a generally planar spiral centered in the stream of deposition material.
(FR)Dans un appareil générateur de plasma, un enroulement est placé entre une cible et une pièce pour coupler de manière inductive de l'énergie RF dans un plasma, si bien que les voies d'une partie de la matière de dépôt ionisée sont déviées du centre de la pièce vers les bords de cette dernière. Par conséquent, on a trouvé qu'il est possible d'améliorer l'homogénéité de dépôt. Dans le mode de réalisation présenté, l'enroulement est un enroulement à tours multiples formé d'une spirale généralement plane centrée dans le flux de matière de dépôt.
États désignés : JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)