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1. (WO1998051843) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT D'OBTENIR UNE TEMPERATURE UNIFORME POUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/051843    N° de la demande internationale :    PCT/US1998/009765
Date de publication : 19.11.1998 Date de dépôt international : 12.05.1998
CIB :
C23C 16/46 (2006.01), C30B 25/10 (2006.01), C30B 25/16 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : WILLIAMS, Meredith, J.; (US).
BALLANCE, David, S.; (US).
BIERMAN, Benjamin; (US).
DEATON, Paul; (US).
HAAS, Brian; (US).
TAKAHASHI, Nobuyuki; (US).
TIETZ, James, V.; (US)
Mandataire : GOREN, David, J.; Applied Materials, Inc. P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052 (US)
Données relatives à la priorité :
08/872,123 16.05.1997 US
Titre (EN) A METHOD AND APPARATUS FOR ACHIEVING TEMPERATURE UNIFORMITY OF A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT D'OBTENIR UNE TEMPERATURE UNIFORME POUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method for controlling the temperature of a substrate in a processing chamber. The processing chamber employs a heating control over at least two heating zones. Each heating zone is independently controllable according to a measured signal corresponding to the substrate temperature and a user-definable offset.
(FR)L'invention concerne un procédé de régulation de la température d'un substrat dans une chambre de traitement. La chambre de traitement fait appel à une régulation du chauffage dans au moins deux zones de chauffage. Chaque zone de chauffage est régulée de manière indépendante selon un signal mesuré correspondant à la température du substrat et à un écart défini par un utilisateur.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)