WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1998050599) COMPOSANT DE VERRE AU QUARTZ POUR ENVELOPPE DE REACTEUR, SON PROCEDE DE FABRICATION ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/050599    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/002685
Date de publication : 12.11.1998 Date de dépôt international : 07.05.1998
CIB :
B24C 1/06 (2006.01), C03B 19/09 (2006.01), C03C 11/00 (2006.01), C03C 15/00 (2006.01), C03C 17/00 (2006.01), C03C 17/02 (2006.01), C03C 17/23 (2006.01)
Déposants : HERAEUS QUARZGLAS GMBH [DE/DE]; Quarzstrasse D-63450 Hanau (DE) (Tous Sauf US).
HELLMANN, Dietmar [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LEIST, Johann [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HELLMANN, Dietmar; (DE).
LEIST, Johann; (DE)
Mandataire : STAUDT, Armin; Heraeus Quarzglas GmbH Schutzrechte Quarzstrasse D-63450 Hanau (DE)
Données relatives à la priorité :
197 19 133.9 07.05.1997 DE
Titre (DE) QUARZGLAS-BAUTEIL FÜR EIN REAKTORGEHÄUSE SOWIE HERSTELLUNGSVERFAHREN UND ANWENDUNG DAFÜR
(EN) QUARTZ GLASS COMPONENT FOR A REACTOR HOUSING AND METHOD FOR ITS PRODUCTION AND APPLICATION
(FR) COMPOSANT DE VERRE AU QUARTZ POUR ENVELOPPE DE REACTEUR, SON PROCEDE DE FABRICATION ET SON UTILISATION
Abrégé : front page image
(DE)Es wird von einem bekannten Quarzglas-Bauteil in Form einer Glocke für eine Reaktorkammer, insbesondere für die Reaktorkammer einer Plasma-Ätzvorrichtung ausgegangen. Das bekannte Quarzglas-Bauteil umfaßt einen Substratkörper aus einer ersten Quarzglas-Qualität, mit einer einem Reaktor-Innenraum zugewandten Innenoberfläche, die in mindestens einem Aufrauhungsbereich eine mittlere Rauhtiefe R¿a? von mehr als 1$g(m)m aufweist. Um hiervon ausgehend ein Quarzglas-Bauteil für ein Reaktorgehäuse anzugeben, das möglichst keine Partikel in der Reaktorkammer erzeugt, und dessen dem Reaktorinnenraum zugewandte Innenoberfläche sich durch hohe Haftfestigkeit für darauf abgeschiedene Materialschichten und eine besonders lange Lebensdauer auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß der Aufrauhungsbereich von einer auf dem Substratkörper ausgebildeten Blasenschicht aus einer zweiten Quarzglas-Qualität gebildet wird, die offene Poren aufweist. Ein einfaches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglas-Bauteils, das die reproduzierbare Einstellung einer vorgegebenen Oberflächenrauhigkeit ermöglicht, umfaßt die folgenden Verfahrensschritte: Formen eines Rohlings aus SiO¿2?-haltiger Körnung, teilweises oder vollständiges Verglasen des Rohlings durch Erhitzen auf eine Temperatur oberhalb von 1000 °C, wobei der SiO¿2?-haltigen Körnung beim Formen der Innenoberfläche des Rohlings in einem Aufrauhungsbereich eine beim Verglasen unter Freisetzung eines Gases reagierende Zusatzkomponente zugemischt wird, wodurch beim Verglasen im Aufrauhungsbereich eine porenhaltige Blasenschicht erzeugt wird.
(EN)The invention relates to a traditional, bell-shaped quartz glass component for a reactor chamber of a plasma etching device. This traditional quartz glass component comprises a substrate body made of a first quartz glass quality, and an inner surface facing a reactor interior. This inner surface has an average surface roughness R¿a? of more than 1 $g(m)m in at least one wrinkle area. The invention seeks to obtain a quartz glass component for a reactor housing which produces, as far as possible, no particles in the reactor chamber; whose interior surface, which faces the reactor interior, demonstrates high adhesion for material coatings deposited thereon; and which is particularly long-lasting. To this end, the wrinkle area consists of a bubble layer deposited on the substrate body and made of a second quartz glass quality with open pores. The invention also relates to a simple method for producing a quartz glass component of this kind, which enables the reproducible setting of a given surface roughness. The method comprises the following steps: a blank is moulded from a SiO¿2?-containing grain mix; the blank is partially or completely vitrified by heating to a temperature over 1000 °C; an additional component, which reacts during vitrification on release of a gas, is admixed to the SiO¿2?-containing grain mix in a wrinkle area during moulding of the blank interior surface. As a result of this, a porous bubble layer is produced in the wrinkle area during vitrification.
(FR)On utilise au départ un composant de verre au quartz connu, sous forme d'une cloche, pour la chambre d'un réacteur, en particulier la chambre d'un réacteur d'un dispositif d'attaque au plasma. Le composant connu de verre au quartz comprend un corps servant de substrat en verre au quartz de première qualité, présentant une surface intérieure orientée vers l'intérieur du réacteur et ayant, au moins dans une zone rugueuse, une profondeur de rugosité moyenne R¿a? supérieure à 1$g(m)m. L'invention a pour but de fournir un composant de verre au quartz pour enveloppe de réacteur ne produisant, autant que possible, aucune particule dans la chambre du réacteur, et dont la surface intérieure tournée vers l'intérieur du réacteur est remarquable en ce qu'elle présente une force d'adhérence élevée pour les couches de matériaux qui y sont déposées ainsi qu'une durée de service particulièrement longue. A cet effet, l'invention est caractérisée en ce que la zone de rugosité est formée par une couche de bulles réalisée sur le substrat, en verre au quartz de deuxième qualité, à pores ouverts. Un procédé simplifié de fabrication d'un tel composant en verre au quartz permettant l'ajustement reproductible d'une rugosité superficielle prédéterminée, comprend les opérations ci-après: moulage d'une ébauche formée de grains à teneur en SiO¿2?, vitrification partielle ou totale de l'ébauche par chauffage à température supérieure à 1000 °C, incorporation d'un composant supplémentaire réagissant avec dégagement gazeux, lors de la vitrification, dans les grains à teneur en SiO¿2?, durant le moulage de l'ébauche dans une zone de rugosité, de manière à obtenir, par vitrification dans ladite zone de rugosité, une couche de bulles poreuse.
États désignés : JP, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)