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1. (WO1998049709) MACHINE A ECRIRE LES MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/049709    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/002296
Date de publication : 05.11.1998 Date de dépôt international : 17.04.1998
CIB :
H01J 37/20 (2006.01)
Déposants : LEICA LITHOGRAPHY SYSTEMS LTD. [GB/GB]; Clifton Road Cambridge CB1 3QH (GB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, KR, LU, MC, NL, PT, SE only).
GEORGE, David, Sydney [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
STURROCK, John, Monro [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
HUGHES, Barrie, James [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : GEORGE, David, Sydney; (GB).
STURROCK, John, Monro; (GB).
HUGHES, Barrie, James; (GB)
Mandataire : STAMER, Harald; Leica Microsystems Holdings GmbH Corporate Patents & Trademarks Dept. P.O. Box 20 20 D-35530 Wetzlar (DE)
Données relatives à la priorité :
9708459.4 25.04.1997 GB
Titre (EN) PATTERN-WRITING MACHINE
(FR) MACHINE A ECRIRE LES MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)A pattern-writing machine comprises an electron beam column (11) for generating a deflectable electron beam, a displaceable stage (10) for supporting a substrate (13) to be scanned by the beam for writing a pattern on the substrate, and a displacing system for displacing the stage (10) and thereby the substrate (13) relative to the beam. The displacing system comprises three pairs of struts (15, 16, 17), which support the stage (11) and are individually variable in length, and drive means for varying the strut lengths to move the stage along each of three mutually orthogonal axes (X, Y, Z) and to pivot the stage about each of the three axes. The drive means can take the form of separately operable drives respectively associated with the struts and controlled by measuring systems detecting stage horizontal position, vertical position and attitude.
(FR)L'invention concerne une machine à écrire les motifs. Cette machine comprend une colonne de faisceau électronique (11) pour générer un faisceau électronique pouvant être défléchi, une platine mobile (10) pour supporter un substrat (13) devant être balayé par le faisceau pour écrire un motif sur ce dernier ainsi qu'un système de déplacement pour déplacer cette platine (10) et ce substrat (13) par rapport au faisceau. Le système de déplacement comprend trois paires d'éléments de renfort (15, 16, 17) qui supportent la platine (11) et dont il est possible de faire varier la longueur. Ce système comprend également des moyens de commande pour faire varier la longueur des éléments de renfort et déplacer la platine le long de chacun de ces trois axes mutuellement perpendiculaires (X, Y, Z) et pivoter la platine autour de chacun de ces trois axes. Les moyens de commande peuvent avoir la forme d'éléments de commande pouvant être séparément actionnés et associés aux éléments de support, et commandés par des systèmes de mesure détectant la position horizontale, la position verticale et l'orientation de la platine.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)