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1. (WO1998042017) DISPOSITIF FLOTTANT AVEC SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/042017    N° de la demande internationale :    PCT/JP1998/001070
Date de publication : 24.09.1998 Date de dépôt international : 13.03.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.10.1998    
CIB :
H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : TODA, Masayuki [JP/JP]; (JP).
KABUSHIKI KAISHA WATANABE SHOKO [JP/JP]; 2-16, Nihonbashi-Muromachi 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0022 (JP) (Tous Sauf US).
UMEDA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANNO, Yoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TODA, Masayuki; (JP).
UMEDA, Masaru; (JP).
KANNO, Yoichi; (JP).
OHMI, Tadahiro; (JP)
Mandataire : FUKUMORI, Hisao; 2F Fuji Building, 5-11, Kudanminami 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 102-0074 (JP)
Données relatives à la priorité :
9/61584 14.03.1997 JP
Titre (EN) FLOATING APPARATUS OF SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF FLOTTANT AVEC SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A floating apparatus of a substrate capable of providing a stable floating state with less vibration of a rotary shaft and a surface when a substrate is floated, for rotating a floating substrate by blowing air stream to the back of a disk-like substrate, including a floating unit comprising a group of floating fine pores for floating the substrate, a group of centering fine pores for fixing the substrate at the center of the apparatus, and a group of rotating fine pores for rotating the substrate at the center of the apparatus, a group of auxiliary fine pores for suppressing the vibration of the substrate during its high speed rotation. A substrate floating type heater and a film formation apparatus using this floating unit of the substrate can form a thin film while keeping cleanness of the surface of the substrate, have a small concentration distribution of starting materials for forming a temperature distribution of the substrate surface and a thin film on the substrate, and can form a film having a uniform film thickness distribution over a broad range.
(FR)Dispositif flottant présentant un substrat capable de produire un état flottant stable avec des vibrations réduites de l'arbre rotatif et de la surface. La rotation du substrat flottant est obtenue en soufflant un flux d'air sur l'arrière d'un substrat en forme de disque. Ce dispositif comporte une unité flottante comprenant un ensemble de flottement à micropores pour faire flotter le substrat, un ensemble de centrage à micropores pour fixer le substrat au centre du dispositif et un ensemble rotatif à micropores pour faire tourner le substrat au centre du dispositif, un ensemble auxiliaire à micropores pour empêcher la vibration du substrat pendant sa rotation à haute vitesse. Un dispositif de chauffage de substrat flottant et un dispositif de formation de film utilisant l'unité flottante du substrat permettent de former un film mince tout en maintenant la surface du substrat propre. Ce dispositif préserve une faible répartition de la concentration de matières premières pour former une répartition de température de la surface du substrat ainsi qu'un film mince sur le substrat. Le dispositif est capable de former un film mince présentant une épaisseur uniforme sur une grande surface.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)