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1. (WO1998040790) COMPOSES PHOTOSENSIBLES DE QUINOLONE ET LEUR PROCEDE DE PREPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/040790    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/001082
Date de publication : 17.09.1998 Date de dépôt international : 26.02.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.09.1998    
CIB :
C07D 215/38 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL [CH/CH]; Rothausstrasse 61, CH-4132 Muttenz (CH)
Inventeurs : OBERLANDER, Joseph, E.; (US).
DURHAM, Dana, L.; (US).
KHANNA, Dinesh, N.; (US)
Mandataire : HÜTTER, Klaus; Clariant GmbH, Patente, Marken und Lizenzen, Building K 801, Room 2027, D-65926 Frankfurt am Main (DE)
Données relatives à la priorité :
08/813,167 07.03.1997 US
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE QUINOLONE COMPOUNDS AND A PROCESS OF PREPARATION
(FR) COMPOSES PHOTOSENSIBLES DE QUINOLONE ET LEUR PROCEDE DE PREPARATION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to novel photosensitive quinolone compounds, specifically novel 3-diazo 2,4-quinolinedione compounds, that may be used in a variety of applications, such as, photosensitive coating compositions, pharmaceuticals, agricultural, amongst others. The invention further relates to a process for making the novel photosensitive 3-diazo 2,4-quinolinedione compounds. These compounds are particularly useful as a photoactive component in a positive working photoresist composition, particularly for use as a deep ultraviolet (UV) photoresist.
(FR)La présente invention porte sur de nouveaux composés photosensibles de quinolone, notamment de nouveaux composés de 3-diazo 2,4-quinolinedione qui peuvent être utilisés dans diverses applications, tels que des compositions de revêtement photosensibles, des produits pharmaceutiques, agricoles et autres. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de nouveaux composés photosensibles de 3-diazo 2,4-quinolinedione. Ces composés sont notamment utilisés comme composants photoactifs dans une composition de résist positif, et notamment comme résist en ultraviolet (UV) lointain.
États désignés : CN, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)