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1. (WO1998040789) PHOTORESISTS POSITIFS CONTENANT DE NOUVEAUX COMPOSES PHOTOACTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/040789    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/001083
Date de publication : 17.09.1998 Date de dépôt international : 26.02.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.09.1998    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL LTD. [CH/CH]; Rothausstrasse 61, CH-4132 Muttenz (CH)
Inventeurs : DURHAM, Dana, L.; (US).
LU, Ping-Hung; (US).
OBERLANDER, Joseph, E.; (US).
KHANNA, Dinesh, N.; (US)
Mandataire : HÜTTER, Klaus; Clariant GmbH, Patente, Marken und Lizenzen, Building K 801, Room 2027, D-65926 Frankfurt am Main (DE)
Données relatives à la priorité :
08/812,542 07.03.1997 US
Titre (EN) POSITIVE PHOTORESISTS CONTAINING NOVEL PHOTOACTIVE COMPOUNDS
(FR) PHOTORESISTS POSITIFS CONTENANT DE NOUVEAUX COMPOSES PHOTOACTIFS
Abrégé : front page image
(EN)A light sensitive positive composition comprising an alkali soluble resin, a novel photoactive compound represented by structure (I) where X is O, S or N-R'; where R' is H, alkyl, substituted alkyl, aryl or aralkyl; Y is a connecting group such as SO¿2?, CO, O or NR'; Z is a carbon containing organic ballast moiety having a molecular weight greater than about 75 and can form a bond with the connecting group; R is independently H, alkyl, alkoxy, aryl, aralkyl, halo or fluoroalkyl; m = 1-3; and n$m(G)1; and a solvent or mixture of solvents. The invention further comprises a process for imaging the composition of this invention to give positive image. The light sensitive composition is especially usefull as a positive deep-UV photoresist.
(FR)Composition positive photosensible comprenant une résine soluble dans les alcalis, un nouveau composé photoactif, représentée par la structure (I), où X est O, S ou N-R', où R' est H, alkyle, alkyle substitué, aryle ou aralkyle, Y est un groupe de liaison, tel que SO¿2?, CO, O ou NR', Z est une fraction de protection organique contenant du carbone présentant un poids moléculaire supérieur à environ 75 et peut former une liaison avec le groupe de liaison, R est indépendamment H, alkyle, alkoxy, aryle, aralkyle, halo ou fluoroalkyle, m = 1-3 et n$m(G)1; et un solvant ou mélange de solvants. L'invention concerne aussi un procédé d'imagerie de la composition faisant l'objet de cette invention afin d'obtenir une image positive. La composition photosensible est spécialement utilisée comme photoresist positif soumis à un rayonnement ultraviolet lointain.
États désignés : CN, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)