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1. (WO1998040319) PREFORME EN VERRE DE QUARTZ SYNTHETIQUE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/040319    N° de la demande internationale :    PCT/EP1998/001311
Date de publication : 17.09.1998 Date de dépôt international : 06.03.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.09.1998    
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01)
Déposants : SCHOTT ML GMBH [DE/DE]; Göschwitzer Strasse 20, D-07745 Jena (DE) (Tous Sauf US).
CORIAND, Frank [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MENZEL, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
VOITSCH, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : CORIAND, Frank; (DE).
MENZEL, Andreas; (DE).
VOITSCH, Andreas; (DE)
Mandataire : BOCK, Gerhard; Patentanwaltsbüro Pfeiffer & Partner, Helmholtzweg 4, D-07743 Jena (DE)
Données relatives à la priorité :
197 09 379.5 07.03.1997 DE
Titre (DE) VORFORM AUS SYNTHETISCHEM KIESELGLAS UND VORRICHTUNG ZU IHRER HERSTELLUNG
(EN) SYNTHETIC QUARTZ GLASS PREFORM AND DEVICE FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) PREFORME EN VERRE DE QUARTZ SYNTHETIQUE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(DE)Eine Vorform aus synthetischem Kieselglas, die nach dem Verfahren der Flammenhydrolyse mit nachfolgender Kühlung hergestellt worden und zur Anwendung energiereicher DUV-Strahlung im Wellenlängenbereich unter 250 nm geeignet ist, weist einen Kernbereich auf, dessen OH-Gehalt $m(G)1150 ppm, dessen Spannungsdoppelbrechung $m(F)5 nm/cm und dessen Widerstandsfähigkeit gegenüber energiereicher DUV-Strahlung durch eine Transmissionsverringerung von $g(D) T $m(F)0,1 %/cm Dicke gegeben ist. Dabei hat das Kieselglas folgende Bestrahlung erfahren: Wellenlänge $g(l)¿1? = 248 nm, Laserschußfrequenz $m(G)300 Hz, Laserschußzahl $m(G)10?9¿ und Energiedichte $m(F)10 mJ/cm?2¿ sowie Wellenlänge $g(l)¿2? = 193 nm, Laserschußfrequenz $m(G)300 Hz, Laserschußzahl $m(G)10?9¿ und Energiedichte $m(F)5 mJ/cm?2¿. Eine Vorrichtung zur Herstellung der Vorform umfaßt eine horizontal angeordnete Muffel mit zwei gegenüberliegenden unterschiedlich großen Öffnungen, von denen die größere zur Entnahme der Vorform und die kleinere zur Einführung eines Brenners dient. Der Innenraum der Muffel verengt sich von der größeren zur kleineren Öffnung.
(EN)The invention relates to a synthetic quartz glass preform which is produced according to the flame hydrolysis technique with subsequent cooling and is suitable for the application of high-energy DUV radiation in the wave length range under 250 nm. Said preform has a core area which contains $m(G)1150 ppm OH, a strain double refraction of $m(F)5 nm/cm and a resistance to high-energy DUV radiation as a result of a transmission reduction of $g(D) T $m(F)0.1 %/cm thickness. The quartz glass has been exposed to the following radiation: wavelength $g(l)¿1? = 248 nm, laser shot frequency $m(G)300 Hz, laser shot value $m(G)10?9¿ and lumination $m(F)10 mJ/cm?2¿, and wavelength $g(l)¿2? = 193 nm, laser shot frequency $m(G)300 Hz, laser shot value $m(G)10?9¿ and lumination $m(F)5 mJ/cm?2¿. A device for producing said preform comprises a horizontally positioned muffle with two different-sized openings facing each other. The larger of said openings is for removing the preform, the smaller opening being for introducing a burner. The internal chamber of the muffle narrows from the larger opening to the smaller opening.
(FR)Préforme en verre de quartz synthétique produite selon le procédé de l'hydrolyse à la flamme avec refroidissement subséquent, qui est destinée à l'utilisation du rayonnement ultraviolet lointain à haute énergie dans la plage des longueurs d'onde inférieures à 250 nm. Ladite préforme possède une zone centrale dont la teneur en OH est $m(G)1150 ppm, dont la biréfringence par compression est $m(F)5 nm/cm et dont la résistance au rayonnement ultraviolet lointain à haute énergie résulte d'une réduction de transmission de $g(D) T $m(F)0,1 %/cm d'épaisseur. Le verre de quartz a été exposé à cet effet au rayonnement suivant: longueur d'onde $g(l)¿1? = 248 nm, fréquence de décharge laser $m(G)300 Hz, valeur de décharge laser $m(G)10?9¿ et densité d'énergie $m(F)10 mJ/cm?2¿ ainsi que longueur d'onde $g(l)¿2? = 193 nm, fréquence de décharge laser $m(G)300 Hz, valeur de décharge laser $m(G)10?9¿ et densité d'énergie $m(F)5 mJ/cm?2¿. Un dispositif permettant de produire ladite préforme comporte une moufle placée horizontalement et dotée de deux ouvertures opposées de grandeur différente dont la plus grande sert au retrait de l'ébauche, et la plus petite à l'introduction d'un brûleur. L'espace interne de la moufle se rétrécit de la plus grande vers la plus petite des ouvertures.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)