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1. (WO1998040208) MATIERE D'EMBALLAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/040208    N° de la demande internationale :    PCT/JP1998/001013
Date de publication : 17.09.1998 Date de dépôt international : 11.03.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.04.1998    
CIB :
C23C 16/30 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01)
Déposants : IDEMITSU PETROCHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 108-0014 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAGUCHI, Shigeki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAGUCHI, Shigeki; (JP)
Mandataire : KINOSHITA, Jitsuzo; Ogikubo TM Building, 3rd floor, 26-13, Ogikubo 5-chome, Suginami-ku, Tokyo 167-0051 (JP)
Données relatives à la priorité :
9/57706 12.03.1997 JP
Titre (EN) PACKAGING MATERIAL
(FR) MATIERE D'EMBALLAGE
Abrégé : front page image
(EN)A packaging material which has an inorganic oxide layer having a high bond strength and high gas-barrier properties and, when put to practical use, being less likely to cause a deterioration in the gas-barrier properties. The packaging material (14) has an inorganic oxide layer (12) composed mainly of silicon, oxygen, and carbon and formed on the surface of a polyamide film (11) by plasma CVD. The content of the carbon element in the inorganic oxide layer (12) is 2 to 35 % by weight. The wettability of a surface (11A) of the polyamide film (11), on which the inorganic oxide layer (12) is to be applied, is 42 to 56 mN/m?2¿. The surface (12A) of the inorganic oxide layer (12) has a wettability of 45 to 70 mN/m?2¿.
(FR)La présente invention concerne une matière d'emballage constituée d'une couche d'oxyde inorganique présentant des propriétés élevées de barrière au gaz et de résistance des liaisons et moins susceptible de provoquer une détérioration des propriétés de barrière au gaz lors d'une utilisation pratique. La matière d'emballage (14) comprend une couche d'oxyde inorganique (12) constituée essentiellement de silicium, d'oxygène et de carbone, sa surface étant constituée d'une couche mince de polyamide (11) par dépôt chimique en phase gazeuse (CVD) au plasma. La teneur de l'élément carbone de la couche d'oxyde inorganique (12) est de 2 à 35 % en poids. La mouillabilité d'une surface (11a) de la couche mince (11) de polyamide sur laquelle on doit appliquer la couche d'oxyde inorganique (12) est de 42 à 56 mN/m?2¿. La surface (12A) de la couche d'oxyde inorganique (12) présente une mouillabilité de 45 à 70 mN/m?2¿.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)