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1. (WO1998038550) SOLUTION REVELATRICE POUR PLAQUE DE RESINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/038550    N° de la demande internationale :    PCT/JP1998/000774
Date de publication : 03.09.1998 Date de dépôt international : 26.02.1998
CIB :
G03F 7/32 (2006.01)
Déposants : TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-8, Dojimahama 2-chome Kita-ku Osaka-shi Osaka 530-8230 (JP) (Tous Sauf US).
SHIBANO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASHO, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIBANO, Hiroshi; (JP).
KASHO, Yoshihiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
9/43687 27.02.1997 JP
9/45832 28.02.1997 JP
Titre (EN) DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE RESIN PLATE
(FR) SOLUTION REVELATRICE POUR PLAQUE DE RESINE PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)A developing solution which contains water as the main component and is used for removing unexposed areas of a photosensitive resin plate after exposure, characterized by containing at least one modifier selected among substances having the ability to ion-exchange with a polyvalent metal ion, compounds having the ability to form a chelate compound with a polyvalent metal ion, and phosphoric acids. The developing solution is effective in diminishing the loss of developing rate caused by the use of water having a high hardness, in reducing the amount of a scum generated by the aggregation of a resin dissolved in the developing solution, and in avoiding such a trouble that a scum adheres to a developed printing plate to give a defective image through printing. The developing solution is also effective in preventing those parts of a developing machine which contact with the developing solution, such as a brush, piping, and filter, from suffering troubles caused by scale or scum deposition, etc. The developing solution has another major advantage that since it is an aqueous solution, it can be easily treated by known techniques for wastewater treatment, such as pH regulation, addition of an adsorbent or a coagulant, and a microbial treatment. Therefore, it greatly contributes to the industrial world.
(FR)Cette solution révélatrice contenant de l'eau comme principal constituant et que l'on utilise pour enlever des zones non exposées d'une plaque de résine photosensible, après exposition de celle-ci, est caractérisée en ce qu'elle comprend au moins un modificateur choisi parmi des substances pouvant effectuer un échange d'ions avec un ion métal polyvalent, des composés pouvant former un composé de chélation avec un ion métal polyvalent, ainsi que des acides phosphoriques, et cette solution est efficace pour palier la perte de vitesse de révélation, provoquée par l'utilisation d'eau possédant une dureté élevée, car elle réduit la quantité de mousse produite par l'agrégation d'une résine dissoute dans la solution révélatrice et évite ainsi que la mousse n'adhère sur une plaque d'impression développée pour donner une image défectueuse lors de l'impression. Cette solution révélatrice est également efficace pour empêcher certaines parties d'une machine de développement qui entrent en contact avec ladite solution, comme une brosse, des tuyaux et un filtre, de subir des dommages provoqués par le tartre ou le dépôt de mousse. Etant donné que cette solution révélatrice est une solution aqueuse, elle présente encore un énorme avantage en ce que l'on peut facilement la traiter à l'aide de techniques connues de traitement d'eaux résiduaires, notamment sur le plan de la régulation du pH, de l'addition d'un adsorbant ou d'un coagulant, et d'un traitement microbien, la contribution de cette solution au monde industriel étant ainsi relativement importante.
États désignés : US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)