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1. (WO1998027646) PROCEDE ET DISPOSITIF D'ADAPTATION D'UNE CHARGE A UNE SOURCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/027646    N° de la demande internationale :    PCT/US1997/023716
Date de publication : 25.06.1998 Date de dépôt international : 19.12.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.07.1998    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US)
Inventeurs : WILLIAMS, Norman; (US).
JEWETT, Russel, F., Jr.; (US)
Mandataire : LOWE, Allan, M.; Lowe Hauptman Gopstein Gilman & Berner LLP, Suite 310, 1700 Diagonal Road, Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
08/770,622 19.12.1996 US
Titre (EN) METHOD OF AND APPARATUS FOR MATCHING A LOAD TO A SOURCE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF D'ADAPTATION D'UNE CHARGE A UNE SOURCE
Abrégé : front page image
(EN)An arrangement and method for matching a load and a power source, such as an r.f. power source for a vacuum plasma processing chamber, includes a match network coupled between the power source and the load. The match network has at least two controllably variable electrical characteristics. A sensor is provided that senses at least two parameters of the load. A drive controller responds to the sensed parameters of the load to independently control varying a first one of the electrical characteristics of the match network as a function of only one of the parameters of the load, and a second one of the electrical characteristics of the match network as a function of another one of the parameters of the load. This is done until the power source and the load are in a matched condition. The separation of the match variables to establish a nearly one-to-one correspondence with the load parameters allows independent adjustment of the match variables to provide fast and unambiguous reaching of the matched condition.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé d'adaptation d'une charge à une source électrique, telle qu'une source électrique H.F. destinée à une chambre de traitement plasma sous vide. Ce dispositif comprend notamment un circuit d'adaptation monté entre la source électrique et la charge. Ce réseau est affecté d'au moins deux caractéristiques électriques variant à la demande. Un capteur permet de suivre au moins deux paramètres captés de la charge. Un régulateur de commande réagit aux paramètres de la charge captés de façon à effectuer un réglage indépendant en faisant varier la première des caractéristiques électriques du circuit d'adaptation en fonction de l'un uniquement des paramètres de charge et en faisant varier la seconde caractéristique électrique du circuit d'adaptation en fonction de l'autre des paramètres de charge. Ce processus se répète jusqu'à ce que la source électrique soit adaptée à la charge. La séparation des variables d'adaptation pour établir une correspondance biunivoque avec les paramètres de la charge permet un réglage indépendant des variables d'adaptation permettant de réaliser l'adaptation rapidement et sans ambiguïté.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, GW, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)