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1. (WO1998026034) COMPOSITION DESTINEE A L'EBAVURAGE/DEGRAISSAGE/NETTOYAGE DE SURFACES METALLIQUES ET PROCEDE AFFERENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/026034    N° de la demande internationale :    PCT/US1997/021405
Date de publication : 18.06.1998 Date de dépôt international : 04.12.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.03.1998    
CIB :
C11D 1/00 (2006.01), C11D 1/44 (2006.01), C11D 1/52 (2006.01), C11D 1/72 (2006.01), C11D 1/83 (2006.01), C11D 1/94 (2006.01), C11D 3/02 (2006.01), C11D 3/28 (2006.01), C11D 11/00 (2006.01), C23G 1/12 (2006.01), C23G 1/22 (2006.01)
Déposants : HENKEL CORPORATION [US/US]; Suite 150, 140 Germantown Pike, Plymouth Meeting, PA 19462 (US) (Tous Sauf US).
PIERCE, John, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
CARLSON, Lawrence, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
WITTKE, William, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PIERCE, John, R.; (US).
CARLSON, Lawrence, R.; (US).
WITTKE, William, J.; (US)
Mandataire : WISDOM, Norvell, E., Jr.; Henkel Corporation, Suite 150, 140 Germantown Pike, Plymouth Meeting, PA 19462 (US)
Données relatives à la priorité :
60/033,155 13.12.1996 US
Titre (EN) COMPOSITION AND METHOD FOR DEBURRING/DEGREASING/CLEANING METAL SURFACES
(FR) COMPOSITION DESTINEE A L'EBAVURAGE/DEGRAISSAGE/NETTOYAGE DE SURFACES METALLIQUES ET PROCEDE AFFERENT
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous liquid composition auxiliary for deburring/degreasing/cleaning metal parts by mass finishing has as its active ingredients: (A) at least one of (A.1) nonionic surfactant molecules that contain a moiety with the chemical formula -(C¿m?H(¿2m-z?)X¿z?O)¿v?, wherein m has the value 2, 3, or 4; z represents an integer with a value from 0 to 2m; X represents a halogen atom, and if z has a value of more than 1, may represent the same or a different halogen atom for each X; and v represents a positive integer and (A.2) anionic and amphoteric alkali stable surfactants; and (B) molecules, exclusive of molecules that are part of component (A), that include a moiety corresponding to general chemical formula (I), where R represents a monovalent aliphatic moiety with the chemical formula -C¿n?H(¿2n+1-y?)F¿y?, wherein n is an integer from 6 to 22, and y is an integer from 0 to (2n+1).
(FR)L'invention concerne une composition de liquide aqueux destinée à l'ébavurage/dégraissage/nettoyage de pièces métalliques par finition en masse, et comprenant comme ingrédients actifs: (A) au moins un élément sélectionné entre (A1) une molécule de tensioactif non ionique contenant une fraction de la formule chimique -(C¿m?H(¿2m-Z?)X¿z?O)¿V?-, dans laquelle m a une valeur égale à 2, 3, ou 4; z représente un entier présentant une valeur de 0 à 2m; X représente un atome d'halogène, et si z a une valeur supérieure à 1, il peut représenter le même atome ou un atome d'halogène différent pour chaque X; et v représente un entier positif; et (A2) des tensioactifs stables alcalins amphotères et anioniques; et (B) des molécules, exclusives de molécules faisant partie du composant (A), comprenant une fraction correspondant à la formule chimique générale (I), dans laquelle R représente une fraction aliphatique monovalente présentant la formule chimique -C¿n?H(¿2n+1-y?)F¿y?, dans laquelle n représente un entier de 6 à 22, et y représente un entier de 0 à (2n+1).
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, ID, IL, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)